據(jù)外媒報道，三星電子已于近日利用遠紫外線（EUV）設備完成了7納米芯片工藝的開發(fā)。最初，這家韓國半導體巨頭計劃在今年下半年完成這項技術(shù)，但最終提前6個月實現(xiàn)目標。三星的這項新技術(shù)將在今年投入量產(chǎn)，目前該公司正準備向高通提供樣品。據(jù)悉，高通是三星7納米工藝的首家企業(yè)客戶。
點評：不但順利完成了7納米芯片工藝的開發(fā)，還提前了6個月。三星可謂是在芯片領(lǐng)域鉚足了勁。之所以這么拼命地干，是因為三星嘗到了芯片的“甜頭”。三星對移動領(lǐng)域的長期關(guān)注與投入，尤其是在內(nèi)存與芯片領(lǐng)域的投入，為其帶來了豐厚的收入。在手機芯片領(lǐng)域，三星最大的對手是臺積電。為了趕超對手，三星甚至已經(jīng)啟動了5納米工藝的研發(fā)工作，并在韓國建造一座遠紫外線芯片制造產(chǎn)線。提前布局、提前研發(fā)、提前完成，先聲奪人也許是三星的一條制勝之道。
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