《電子技術(shù)應(yīng)用》
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氧化鋁及硅LED集成封裝基板材料的熱阻比較分析
摘要: 氧化鋁基板及硅基板目前皆已應(yīng)用于高功率LED的封裝,由于LED發(fā)光效率仍有待提升,熱仍是使用LED燈具上必須解決的重要問題,因此LED導(dǎo)熱功能必須仔細(xì)分析。
關(guān)鍵詞: LED封裝 LED芯片 熱阻
Abstract:
Key words :

  圖1為目前高功率LED封裝使用的結(jié)構(gòu),LED芯片會先封裝在導(dǎo)熱基板上,再打金線及封膠,這LED封裝結(jié)構(gòu)體具備輕巧,高熱導(dǎo)及電路簡單等優(yōu)點(diǎn),可應(yīng)用在戶外及室內(nèi)照明。基板的選擇中,氧化鋁(Al2O3)及硅(Si)都是目前市面上已在應(yīng)用的材料,其中氧化鋁基板因是絕緣體,必須有傳導(dǎo)熱設(shè)計,藉由電鍍增厚銅層達(dá)75um;而硅是優(yōu)良導(dǎo)熱體,但絕緣性不良,必須在表面做絕緣處理。

LED封裝結(jié)構(gòu)

圖1 LED封裝結(jié)構(gòu)

  氧化鋁基板及硅基板目前皆已應(yīng)用于高功率LED的封裝,由于LED發(fā)光效率仍有待提升,熱仍是使用LED燈具上必須解決的重要問題,因此LED導(dǎo)熱功能必須仔細(xì)分析。要分析導(dǎo)熱功能必須使用熱阻儀來量測,以下的分析將細(xì)分LED封裝體結(jié)構(gòu),包括芯片層,接合層及基板層,來分析每層熱阻,分析工具則是目前世界公認(rèn)最精確的T3Ster儀器。

  本文將簡單解析氧化鋁基板及硅基LED板封裝在熱阻的表現(xiàn)(T3Ster儀器實(shí)測),其中專有名詞定義如下:

  Rth:熱阻,單位是(℃/W),公式為T/KA;

  T:導(dǎo)熱基板的厚度(um);

  K:導(dǎo)熱基板的導(dǎo)熱系數(shù)(W/mC);

  A:導(dǎo)熱面積(mmxmm)。

  圖1為目前高功率LED封裝使用的結(jié)構(gòu),LED芯片會先封裝在導(dǎo)熱基板上,再打金線及封膠,這LED封裝結(jié)構(gòu)體具備輕巧,高熱導(dǎo)及電路簡單等優(yōu)點(diǎn),可應(yīng)用在戶外及室內(nèi)照明。基板的選擇中,氧化鋁(Al2O3)及硅(Si)都是目前市面上已在應(yīng)用的材料,其中氧化鋁基板因是絕緣體,必須有傳導(dǎo)熱設(shè)計,藉由電鍍增厚銅層達(dá)75um;而硅是優(yōu)良導(dǎo)熱體,但絕緣性不良,必須在表面做絕緣處理。

LED封裝結(jié)構(gòu)

圖1 LED封裝結(jié)構(gòu)

  氧化鋁基板及硅基板目前皆已應(yīng)用于高功率LED的封裝,由于LED發(fā)光效率仍有待提升,熱仍是使用LED燈具上必須解決的重要問題,因此LED導(dǎo)熱功能必須仔細(xì)分析。要分析導(dǎo)熱功能必須使用熱阻儀來量測,以下的分析將細(xì)分LED封裝體結(jié)構(gòu),包括芯片層,接合層及基板層,來分析每層熱阻,分析工具則是目前世界公認(rèn)最精確的T3Ster儀器。

  本文將簡單解析氧化鋁基板及硅基LED板封裝在熱阻的表現(xiàn)(T3Ster儀器實(shí)測),其中專有名詞定義如下:

  Rth:熱阻,單位是(℃/W),公式為T/KA;

  T:導(dǎo)熱基板的厚度(um);

  K:導(dǎo)熱基板的導(dǎo)熱系數(shù)(W/mC);

  A:導(dǎo)熱面積(mmxmm)。

 E公司氧化鋁基板的LED封裝熱阻分析

圖2  E公司氧化鋁基板的LED封裝熱阻分析

  將氧化鋁應(yīng)用在LED封裝主要是因?yàn)檠趸X材料高絕緣性及可制作輕小的組件,然而,氧化鋁基板應(yīng)用在電子組件,會因?yàn)檠趸X材料導(dǎo)熱系數(shù)低(約20K/W),造成高熱阻。圖2為T3Ster熱阻儀測試E公司氧化鋁基板封裝LED(LEDarea:1x1mm;LEDemitter:3.15x3.5mm))的結(jié)果,在25℃環(huán)境溫度下測試時,各封裝層的熱阻如下:

  1.Chip:2℃/W

  2.Bondinglayer:3℃/W

  3.氧化鋁基板:20℃/W(高熱阻,基板制作不佳)

  當(dāng)175mA小電流通入在1x1mm2的LED芯片上,氧化鋁基板因熱阻的溫升為10.5℃(=20x175mAx3.0V),熱不易傳導(dǎo)出LED芯片;當(dāng)350mA電流通入在1x1mm2的LED芯片上,氧化鋁基板因熱阻的溫升為23℃(=20x350mAx3.3V),此時氧化鋁基板會無法將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會產(chǎn)生大量光衰;而當(dāng)500mA大電流通入在1x1mm2的LED芯片上時,氧化鋁基板因熱阻的溫升大約為36℃(20x(500Ax3.6V),此時氧化鋁基板也會無法將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會快速光衰。因此,LED芯片封裝若選擇氧化鋁基板,因其熱阻高,封裝組件只適合使用在低功率(~175mA,約0.5W)。

R公司氧化鋁基板的LED封裝熱阻分析

圖3  R公司氧化鋁基板的LED封裝熱阻分析

  圖3為T3Ster熱阻儀測試氧化鋁基板封裝LED(LEDarea:1x1mm;LEDemitter:3.15x3.5mm))的結(jié)果,在25℃環(huán)境溫度下測試時,各封裝層的熱阻如下:

  1.Chip:2℃/W

  2.Bondinglayer:1.5℃/W

  3.氧化鋁基板:4.7℃/W(氧化鋁基板厚度:400um,銅層厚度75um)

  當(dāng)175mA小電流通入下,其基板因熱阻溫升為4.7℃;當(dāng)電流來到350mA,基板溫升為6.9℃,當(dāng)500mA電流通入時,基板溫升大約為8.1℃,及當(dāng)700mA大電流通入下,基板因熱阻溫升大約為11℃。

  當(dāng)氧化鋁基板溫升大于8℃,此時氧化鋁基板會不易將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會快速光衰。LED芯片封裝在氧化鋁基板,封裝組件只適合始使用功率(~350mA,約1watt)。

  應(yīng)用以硅為導(dǎo)熱基板的LED封裝,如圖4所示,在3.37x3.37mxm2的小尺寸面積上,具有快速導(dǎo)熱的性能,可大幅解決因?yàn)槭褂醚趸X造成的高熱阻問題。以精密的量測熱阻設(shè)備(T3Ster)量測到的熱阻值,在25℃環(huán)境溫度下測試時,各封裝層的熱阻如下:

  1.Chip:1℃/W

  2.Bondinglayer:1.5℃/W

  3.Sisubstrate:2.5℃/W

 VisEra硅基板LED封裝熱阻分析

圖4  VisEra硅基板LED封裝熱阻分析

  當(dāng)大電流(700mA)通入在1x1mm2的LED芯片上,硅基板因熱阻的溫升為6.3℃(=2.5x700mAx3.6V),硅基板會快速將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片只會有小量光衰。硅藉由優(yōu)良導(dǎo)熱性能將熱傳導(dǎo)出LED芯片,LED芯片會只會有小許光衰。因此,LED芯片封裝在硅基板上適合于大功率使用(~700mA,約3W)。因?yàn)楣杌逯谱骷癓ED封裝在硅基板,技術(shù)難度非常高,目前只有少許公司具備。硅作為LED集成封裝基板材料的熱阻低于氧化鋁基板材料,應(yīng)用于大功率時,硅基板為好的選擇。

     總體LED封裝熱阻經(jīng)T3Ster實(shí)測結(jié)果比較如下:

        LEDSi封裝:VisEra:5℃/W

        LED氧化鋁,E公司:25℃/W

        LED氧化鋁封裝,R公司:8.2℃/W

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