8月27日消息，據(jù)臺(tái)媒報(bào)道，中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)高等檢察署智能財(cái)產(chǎn)分署偵辦的臺(tái)積電2nm核心關(guān)鍵技術(shù)營(yíng)業(yè)秘密遭非法竊取案已偵查結(jié)束，并于8月27日依照中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)“安全法”核心關(guān)鍵技術(shù)營(yíng)業(yè)秘密之域外使用罪、“營(yíng)業(yè)秘密法”意圖域外使用而竊取營(yíng)業(yè)秘密罪、竊取營(yíng)業(yè)秘密罪等罪嫌，起訴涉案3名工程師陳力銘、吳秉駿及戈一平，全案預(yù)計(jì)下周移審智慧財(cái)產(chǎn)及商業(yè)法院。

報(bào)道稱，高檢署智財(cái)分署查出，TEL是臺(tái)積電其他制程蝕刻機(jī)供應(yīng)商，想切入2nm制程，因此以測(cè)試方式尋求蝕刻機(jī)站點(diǎn)供應(yīng)資格，但測(cè)試最終失敗，而跳槽到TEL工作的前臺(tái)積電工程師陳力銘，找上過(guò)往同事、臺(tái)積電現(xiàn)任工程師吳秉駿及戈一平，通過(guò)遠(yuǎn)端登入臺(tái)積電遠(yuǎn)端數(shù)據(jù)庫(kù)系統(tǒng)方式，查看機(jī)密檔案并翻拍多張照片，借此改善蝕刻機(jī)臺(tái)表現(xiàn)等，其中有10多張照片涉核心機(jī)密，后因臺(tái)積電察覺(jué)有異，展開(kāi)內(nèi)部調(diào)查并于今年7月8日向高檢署提告。

檢方獲報(bào)后于7月25日至28日指揮調(diào)查局發(fā)動(dòng)多波搜索及約談行動(dòng)，審訊后將陳等3人聲押禁見(jiàn)獲準(zhǔn)；據(jù)悉，3人均坦承犯行，并爭(zhēng)取希望依臺(tái)灣地區(qū)安全法減刑。

檢方認(rèn)為，本案事涉地區(qū)產(chǎn)業(yè)命脈的國(guó)家核心關(guān)鍵技術(shù)，嚴(yán)重威脅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力，3人犯罪情節(jié)重大，對(duì)陳力銘依涉營(yíng)業(yè)秘密法“意圖域外使用而竊取營(yíng)業(yè)秘密罪”申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑5年、“竊取營(yíng)業(yè)秘密”申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑3年、地區(qū)安全法“臺(tái)灣地區(qū)核心關(guān)鍵技術(shù)營(yíng)業(yè)秘密之域外使用”罪申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑8年，數(shù)罪并罰申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑14年。

吳秉駿涉“意圖域外使用而竊取營(yíng)業(yè)秘密罪”申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑4年、“臺(tái)灣地區(qū)核心關(guān)鍵技術(shù)營(yíng)業(yè)秘密之域外使用罪”申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑7年，兩罪并罰申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑9年。

戈一平涉犯“臺(tái)灣地區(qū)核心關(guān)鍵技術(shù)營(yíng)業(yè)秘密之域外使用罪”，申請(qǐng)執(zhí)行有期徒刑7年。

檢方表示，已分案續(xù)查是否有法人及自然人涉有相關(guān)刑事責(zé)任。此外，本案另有3名被告涉營(yíng)業(yè)秘密法告訴乃論刑責(zé)，因臺(tái)積電表明不提出告訴，檢方因此予以簽結(jié)。