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日立開發機器學習半導體缺陷檢測技術

可檢出10nm及更小微缺陷
2025-03-06
來源:IT之家

3月5日消息,日立當地時間2月27日稱該企業已開發出了一種高靈敏度半導體陷檢測技術,可通過機器學習的輔助檢出10nm及更小尺寸的微缺陷。這項技術已在二月末的SPIE先進光刻與圖案化2025學術會議上展出。

隨著對高性能芯片的需求不斷增加,半導體制造商對生產中的質量控制愈發重視;而制程的微縮也意味著能直接影響性能的缺陷尺寸門檻逐漸降低,對缺陷檢測靈敏度的要求進一步提升。日立的這一技術就是在該背景下應運而生的。

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日立的機器學習缺陷檢測技術主要包含兩大部分,即圖像重建對比和過度檢測抑制:

圖像重建對比:檢測系統首先通過大量添加噪點的“人造”缺陷圖像學習微缺陷的數據特征;實際使用時對掃描電鏡照片盡量進行無缺陷版本重建,并對原始圖像和重建圖像進行對比,從而檢出缺陷。

過度檢測抑制:由于先進半導體制程的微縮,差異化功能電路和缺陷在圖像上的區別逐漸模糊,而機器學習檢測系統可對電路布局進行分類,并根據電路特征調整靈敏度,可減少90%的過度檢測。


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