如果將芯片制造比作雕刻，那光刻機就是將雕刻線稿（電路圖）描繪在材料（晶圓表面）上的畫筆。它決定著芯片的工藝水平和性能，是制造半導體芯片的關鍵裝備。

近日，項目總投資約50億元的上海圖雙精密裝備項目落戶紹興市越城區(qū)，成為紹“芯”版圖上的又一塊新拼圖。項目計劃分兩期實施。一期計劃投資約5億元，一期占地面積35畝，用于轉移及擴大公司目前在上海的產(chǎn)能；二期計劃投資約45億元。兩期將實現(xiàn)年產(chǎn)50-100臺半導體設備的目標。項目正在建設中，預計2025年投產(chǎn)。

這家上海高新技術企業(yè)為何會將生產(chǎn)基地放在越城？上海圖雙董事長鐘敏道出了背后的原因。去年下半年，基于連年的業(yè)績增長，公司計劃在長三角地區(qū)籌建大型生產(chǎn)基地。經(jīng)過幾次拜訪和對接，鐘敏被越城的滿滿誠意打動。“招商政策好，產(chǎn)業(yè)集聚性強，項目也有專人全流程服務，企業(yè)發(fā)展前景廣闊。”談及越城的營商環(huán)境，鐘敏給予了很高評價。

經(jīng)過多年的深耕細作，越城已集聚起近百家集成電路及相關規(guī)上企業(yè)，初步形成以特色工藝、先進封裝為核心的全產(chǎn)業(yè)鏈條，產(chǎn)值規(guī)模超500億元，穩(wěn)居浙江省集成電路行業(yè)第一梯隊。眾多龍頭企業(yè)齊聚，用精湛的技藝和無盡的創(chuàng)造力，將硅片轉化為驅動未來的強大引擎。

光刻設備是發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)的核心設備，卻一直處于“卡脖子”狀態(tài)。光刻機最先進的技術被荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能三大國際大廠壟斷。尤其是最為先進的EUV光刻機，全世界僅有ASML一家能夠提供。目前，在光刻機領域，國內(nèi)眾多集成電路生產(chǎn)企業(yè)仍需通過進口來滿足產(chǎn)業(yè)發(fā)展的需求。

此次成功引入的上海圖雙精密裝備項目，不僅能根據(jù)市場需求研發(fā)生產(chǎn)國產(chǎn)光刻機，也能對國外光刻機進行定制化改造、調(diào)試。“光刻機比較精密，設備的裝調(diào)是相當重要的環(huán)節(jié)。”鐘敏解釋道，超高的精密度要求是造成光刻機技術難以在短時間內(nèi)取得突破的主要原因之一。以EUV光刻機為例，其零件數(shù)量超過45萬個，是一輛F1賽車的20倍以上。因而，光刻機從出廠，經(jīng)船運或空運到達項目安裝地后，還需要幾個月的時間進行裝調(diào)。

目前，上海圖雙的技術能力和資源已覆蓋ASML、尼康、佳能三家公司的6寸、8寸、12寸光刻機，能按照不同的芯片產(chǎn)品特性及工藝進行設備再制造、技術匹配、工藝調(diào)試等定制化服務，從而更好地滿足本地集成電路產(chǎn)業(yè)的“芯”質(zhì)生產(chǎn)，在持續(xù)提升芯片價值的同時降低制造成本，與“芯”友共同推動集成電路產(chǎn)業(yè)的崛起。

作為半導體產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”，光刻機的動態(tài)進展格外受到關注。對于朝著浙江集成電路“第一區(qū)”目標沖刺的越城而言，完善半導體設備產(chǎn)業(yè)也是答好時代“芯”命題的必然要求。隨著更多集成電路產(chǎn)業(yè)鏈核心項目的落地生根，越城的“芯”夢想愈發(fā)清晰。