8 月 5 日消息，璞璘科技 PRINANO 今日宣布其在 8 月 1 日成功向一家國內(nèi)特色工藝客戶交付其自主研發(fā)的中國首臺半導(dǎo)體級步進(jìn)式納米壓印光刻 (NIL) 系統(tǒng) PL-SR。
璞璘在 PL-SR 系列設(shè)備上成功攻克噴墨涂膠工藝多項技術(shù)瓶頸，實現(xiàn)了納米級的壓印膜厚，達(dá)到了平均殘余層＜10nm、殘余層變化＜2nm、壓印結(jié)構(gòu)深寬比＞7:1 的技術(shù)指標(biāo)，可對應(yīng)線寬＜10nm 的 NIL 工藝。
璞璘科技表示其 PL-SR 系列噴墨步進(jìn)式納米壓印設(shè)備目前已經(jīng)初步完成存儲芯片、硅基 (oS) 微顯示器、硅光 (SiPh) 及先進(jìn)封裝 (AVP) 等芯片研發(fā)驗證；其最小可實現(xiàn) 20mm×20mm 壓印模板均勻拼接，最終可實現(xiàn) 12 英寸晶圓級超大模板。
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