眾所周知，半導(dǎo)體工藝是非常高精密的高科技工藝，像臺(tái)積電這種新工藝界的帶頭人也不可能自己完全搞定，而是依賴整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的設(shè)備和技術(shù)供應(yīng)，比如大家比較熟悉的光刻機(jī)，但是設(shè)備僅僅來自荷蘭ASML（阿斯麥）一家。
ASML一年最多可以生產(chǎn)12臺(tái)EUV光刻機(jī)（NXE：3400B），單臺(tái)價(jià)格超過8億人民幣，媲美一架美軍F35戰(zhàn)機(jī)。臺(tái)積電在去年砸錢搶到了幾臺(tái)，才讓其7nm EUV極紫外光刻工藝芯片完成首次流片，并且臺(tái)積電的7nm產(chǎn)線已經(jīng)被AMD等大廠預(yù)定。
不過從更先進(jìn)的5nm工藝時(shí)代開始，這一壟斷恐怕要打破了。近日有實(shí)錘在臺(tái)積電的5nm生產(chǎn)線中，就有來自我國深圳中微半導(dǎo)體的5nm等離子體蝕刻機(jī)，完全自主研發(fā)，并且已經(jīng)通過了臺(tái)積電的驗(yàn)證，臺(tái)積電的5nm工藝就靠它。中微半導(dǎo)體CEO尹志堯驕傲地形容說：“在米粒上刻字的微雕技藝上，一般能刻200個(gè)字已經(jīng)是極限，而我們的等離子刻蝕機(jī)在芯片上的加工工藝，相當(dāng)于可以在米粒上刻10億個(gè)字的水平。”國產(chǎn)能有這樣的成就，中國芯片將屹立世界之巔可不是玩笑話了。
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