現(xiàn)在是個(gè)制程滿(mǎn)天飛的時(shí)代，過(guò)去Intel一家獨(dú)大引領(lǐng)晶元工藝進(jìn)步的格局已經(jīng)被打破。雖然Intel自己和很多業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為同為14nm，Intel制程的漏電率、功耗等技術(shù)優(yōu)勢(shì)仍然是三星14nm、臺(tái)積電16nm所不具備的，甚至根據(jù)線(xiàn)寬嚴(yán)格計(jì)算，后兩者的宣傳水分都很大，但在民間輿論上，數(shù)字領(lǐng)先的誘惑還是無(wú)可抵御的。日前，三星決定加速6nm制程工藝研發(fā)，矢志在新的制程大戰(zhàn)中再下一城。

當(dāng)然，三星的6nm可能更加偏向于手機(jī)SOC CPU的制造，同時(shí)也保留有7nm的晶元生產(chǎn)線(xiàn)，與其聯(lián)姻的格羅方德為AMD等制造7nm的CPU、GPU,明年可能就要出來(lái)了。此前有消息稱(chēng)臺(tái)積電的7nm工藝也已經(jīng)流片十三次，IBM 的5nm工藝進(jìn)入實(shí)質(zhì)性階段。面對(duì)百花齊放的局面，Intel 10nm工藝制程也許會(huì)更有技術(shù)優(yōu)勢(shì)，但至少在民間形象上已經(jīng)受到了一些影響。此前的消息表示，Cannonlake 進(jìn)度也許會(huì)提前，但I(xiàn)ntel 10納米工藝初期難上高頻，確定只能用在更強(qiáng)調(diào)能耗的筆記本平臺(tái)上。

面對(duì)制程大戰(zhàn)，最高興的可能是新銳光刻機(jī)廠(chǎng)商了，荷蘭ASML表示，EUV（極紫外）光刻機(jī)可用于7/6/5nm工藝，Intel、臺(tái)積電、三星等都采購(gòu)了相關(guān)設(shè)備。不知道ASML 的老對(duì)手，已經(jīng)默默無(wú)聞的光刻機(jī)廠(chǎng)商兼影像廠(chǎng)商尼康會(huì)有什么心里感想。