《電子技術(shù)應(yīng)用》
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交直流疊加電源的研制
2017年電子技術(shù)應(yīng)用第3期
王勝利,吳云峰,唐 輝,胡波洋,苗 玲
電子科技大學(xué) 能源科學(xué)與工程學(xué)院,四川 成都611731
摘要: 為了運(yùn)用電化學(xué)腐蝕法制備金屬氧化物納米顆粒,設(shè)計(jì)了一種有良好動(dòng)態(tài)響應(yīng)的可調(diào)頻率的交直流疊加電源。該電源能夠輸出的最大峰值電壓為30 V,允許流經(jīng)的最大電流為10 A,方波頻率為35~101 Hz。電源電路主要包括驅(qū)動(dòng)電路、方波產(chǎn)生電路和直流疊加電路。此電源給出了主電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),分析了電路原理,并對(duì)其調(diào)頻控制方法進(jìn)行了闡述,給出了調(diào)頻調(diào)壓的結(jié)果。此電源應(yīng)用于電化學(xué)腐蝕試驗(yàn)中,取得了很好的效果,得到了尺寸為30 nm的四氧化三鐵顆粒。在用電化學(xué)腐蝕法制備金屬氧化物納米顆粒實(shí)驗(yàn)中表明了該電源具有較快的動(dòng)態(tài)響應(yīng)、頻率可調(diào)節(jié)、穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。
中圖分類(lèi)號(hào): TN86
文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼: A
DOI:10.16157/j.issn.0258-7998.2017.03.035
中文引用格式: 王勝利,吳云峰,唐輝,等. 交直流疊加電源的研制[J].電子技術(shù)應(yīng)用,2017,43(3):141-144.
英文引用格式: Wang Shengli,Wu Yunfeng,Tang Hui,et al. Design of AC and DC superposition power supply[J].Application of Electronic Technique,2017,43(3):141-144.
Design of AC and DC superposition power supply
Wang Shengli,Wu Yunfeng,Tang Hui,Hu Boyang,Miao Ling
School of Energy Science and Engineering,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 611731,China
Abstract: It is proposed to design a good dynamic response and adjustable frequency AC and DC superposition power supply, in order to prepare metal oxide nanoparticles with electrochemical corrosion method. The maximum peak voltage output of the power supply is 30 V, the maximum current allowed to flow through is 10 A, and square wave frequency is 35-101 Hz. The circuit of power supply includes an auxiliary power supply circuit, a square wave generating circuit and the DC superposition circuit. In this paper, the author designs the main circuit topology, analyzes the circuit principle, elaborates its frequency control method and produces the results of voltage and frequency modulation. This power supply is applied to electrodeposition and electrochemical corrosion test which achieved effective results and obtained the size of 30 nm of Fe3O4 particles. It is proved that the power supply is possessed of the merits of fast dynamic response, adjustable frequency and high stability in electrochemical corrosion experiment of metal oxide nanoparticles preparation.
Key words : AC and DC superposition power supply;metal oxide;nanoparticles;symmetrical square wave;electrochemical corrosion test

0 引言

    納米材料由于其特殊的光、電、聲、磁、熱和化學(xué)性能而被稱(chēng)為“21世紀(jì)最有前途的材料”。金屬氧化物納米材料因其廣泛的應(yīng)用前景倍受青睞。合成高純度、粒徑和形貌可控的納米氧化物是制備高性能納米材料的第一步。迄今為止,已經(jīng)開(kāi)拓了多種多樣制備氧化物的方法,如磁控濺射法、溶膠-凝膠法、氣相法、噴霧熱解法以及水熱制備技術(shù)。與上述方法相比,采用交直流疊加電源通過(guò)電化學(xué)腐蝕法制備金屬氧化物納米材料的方法,具有許多優(yōu)點(diǎn),例如操作簡(jiǎn)單,反應(yīng)前驅(qū)物價(jià)格低廉,反應(yīng)產(chǎn)率高,對(duì)產(chǎn)物形貌容易控制等。

    交直流疊加電源[1]在油紙絕緣系統(tǒng)測(cè)試試驗(yàn)[2-4]中運(yùn)用頻繁,使用的電壓等級(jí)[5]高。清華大學(xué)在對(duì)油紙絕緣沿面閃絡(luò)的影響試驗(yàn)時(shí)使用了交直流疊加電源[6]。非對(duì)稱(chēng)波形電源[7]利用高通濾波器去除了高頻方波中的直流分量, 使正方波變成正負(fù)面積相等的非對(duì)稱(chēng)方波。直流疊加電路通過(guò)電阻和電感串聯(lián)將低壓直流信號(hào)疊加到高頻高壓的非對(duì)稱(chēng)方波上, 同時(shí)有效阻隔了高頻高壓非對(duì)稱(chēng)方波對(duì)低壓直流電源可能造成的損害。此疊加電源有所不同,運(yùn)用接入變壓器的思想,一是實(shí)現(xiàn)了隔離的作用,二是提高電流的輸出能力,三是效率較高,因?yàn)槭∪チ烁艚浑娮琛?/p>

1 電路結(jié)構(gòu)與工作原理

    交直流疊加電源電路主要由半橋電路、驅(qū)動(dòng)電路、信號(hào)發(fā)生電路、直流疊加電路四部分組成,其基本原理框圖如圖1所示。

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1.1 電路主拓?fù)?/strong>

    直流電壓經(jīng)過(guò)半橋[8,9]逆變成交流方波,經(jīng)疊加電路,串聯(lián)直流電源,形成最后的交直流疊加電壓。由于開(kāi)關(guān)電源中的兩個(gè)開(kāi)關(guān)管輪流交替工作,其輸出電壓波形對(duì)稱(chēng),并且開(kāi)關(guān)電源在整個(gè)工作周期之內(nèi)都向負(fù)載提供功率輸出,因此,其輸出電流瞬間響應(yīng)速度高、電壓輸出特性良好。如圖2所示。

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1.2 驅(qū)動(dòng)隔離電路

1.2.1 控制脈沖信號(hào)產(chǎn)生電路

    控制脈沖信號(hào)產(chǎn)生電路如圖3所示。芯片SG3525形成控制脈沖信號(hào),脈沖寬度調(diào)制(Pulse Width Modulation,PWM)頻率F由下式?jīng)Q定:

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    式中:Ct為連接在5腳上的定時(shí)電容;Rt為連接在6腳上的定時(shí)電阻;Rd為連接在5腳和7腳之間的放電電阻。SG3525的外圍電路中Ct和Rd的大小決定了方波電源輸出頻率的范圍,通過(guò)改變6號(hào)腳的電流大小,實(shí)際上就等效于改變了Rd的大小。由公式可知,這樣也就調(diào)節(jié)了SG3525輸出的控制信號(hào)的頻率。設(shè)計(jì)由SG3525產(chǎn)生兩路控制信號(hào)來(lái)控制金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(Metal-oxide-semiconductor Field-effect Transistor,MOSFET)的導(dǎo)通與關(guān)閉。

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1.2.2 隔離和驅(qū)動(dòng)電路

    如圖4所示,每個(gè)驅(qū)動(dòng)電路都采用獨(dú)立的輔助電源供電, 以保證各驅(qū)動(dòng)電路間的相互隔離。在控制信號(hào)電路與驅(qū)動(dòng)電路之間使用6N137光耦隔離, 從而保證它們之間互不影響。驅(qū)動(dòng)電路的控制信號(hào)由SG3525產(chǎn)生。MOSFET驅(qū)動(dòng)采用由三極管級(jí)聯(lián)的方式,增強(qiáng)了驅(qū)動(dòng)能力。設(shè)計(jì)電路時(shí),在兩路驅(qū)動(dòng)之間接入了一個(gè)二極管,為防止兩個(gè)開(kāi)關(guān)管同時(shí)導(dǎo)通和關(guān)斷。

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1.3 方波產(chǎn)生電路

    方波產(chǎn)生電路結(jié)構(gòu)為半橋結(jié)構(gòu)[10,11],如圖2所示。其中,A為直流電源,MOSFET管Q1和Q2分別與A串聯(lián),組成半橋結(jié)構(gòu)的上下橋臂。當(dāng)MOSFET管Q1導(dǎo)通,Q2關(guān)斷時(shí),輸出端的電壓大小為U;當(dāng)MOSFET管Q1關(guān)斷,Q2導(dǎo)通時(shí),輸出端的電壓大小為-U。因此,當(dāng)MOSFET管Q1和Q2以一定頻率交替導(dǎo)通及關(guān)斷時(shí),在輸出端就可以得到-U到U的方波。

1.4 直流疊加電路

1.4.1 疊加電路

    為達(dá)到對(duì)稱(chēng)方波電源和直流電壓電源的電壓大小分別獨(dú)立可調(diào)、互不影響,因此采用了一個(gè)單獨(dú)控制的直流源來(lái)輸出直流電壓,該直流源可以輸出的電壓最高為32 V,并通過(guò)相應(yīng)的隔離疊加電路,使直流電壓與對(duì)稱(chēng)方波疊加在一起,共同作用于負(fù)載。為了直流電源A輸出的電流和直流電源B輸出的電流能夠匹配,也因?yàn)檩敵鲭娏髯罡呖蛇_(dá)到10 A,因此使用了降壓變壓器T1,變壓器也實(shí)現(xiàn)了隔離的效果,也使電源的效率比較高。

1.4.2 變壓器的選擇

    變壓器的選擇是根據(jù)工作頻率和輸出功率來(lái)確定的,因?yàn)榇穗娫摧敵龅念l率為30~101 Hz,頻率已經(jīng)確定為低頻,變壓器的選擇主要依據(jù)輸出功率來(lái)確定。電源的輸出電流最大為10 A,根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求的方波最大值為6 V,最終確定變壓器為降壓變壓器,變比為220:36,此變壓器的最大電流輸出為12 A。

2 電源輸出結(jié)果與分析

2.1 空載時(shí)參數(shù)的變化對(duì)輸出電壓的影響

    空載實(shí)驗(yàn)波形如圖5所示,圖5中的(a)和(b)分別是35 Hz和96 Hz的輸出波形。通過(guò)調(diào)節(jié)SG3525芯片的6端的Rd,改變了控制信號(hào)的頻率,從而改變了半橋的導(dǎo)通時(shí)間,進(jìn)而改變了方波的頻率。頻率的調(diào)節(jié)范圍為35~101 Hz。

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    圖5中的(c)和(d)分別是在頻率和直流電源A的大小相同的情況下,直流電源B為25 V和30 V的輸出波形。通過(guò)調(diào)節(jié)串入的直流電源B的大小,可以改變交直流疊加后的輸出電壓大小。直流電源B的調(diào)節(jié)范圍是0~32 V。

    圖5中的(e)和(f)分別是在頻率和直流電源B的大小相同的情況下,方波為4 V和6 V的輸出波形。通過(guò)調(diào)節(jié)MOSFET兩端的直流電壓,可以改變方波的輸出電壓大小。方波電壓可以調(diào)節(jié)范圍為0~6 V。

2.2 電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)時(shí)電源輸出電壓波形

    空載和電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)波形如圖6所示。

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    圖7中的(a)和(b)是圖6中的(b)圖的上升沿和下降沿的波形放大圖。觀察圖7(a)和(b)兩圖,形成了緩慢上升和下降的波形,原因是變壓器導(dǎo)致的。所用變壓器并不是理想變壓器,它是有漏感[12]的。經(jīng)仿真實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,漏感是引起這個(gè)問(wèn)題的主要原因。空載時(shí),沒(méi)有形成回路,電流為零,漏感并沒(méi)有影響空載波形,因此圖6中(a)圖電壓波形比(b)圖優(yōu)良。從圖7可觀察到:上升沿和下降沿的變化響應(yīng)很快,均在30 μs左右,有著良好的動(dòng)態(tài)響應(yīng)。

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3 應(yīng)用與實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析

    利用該電源進(jìn)行電化學(xué)腐蝕法制備金屬氧化物納米顆粒實(shí)驗(yàn),得到的實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖8所示。圖8的(a)和(b)是采用直流電源為5 V,方波為2 V,頻率為56 Hz,占空比為0.5的交變方波反應(yīng)20 min后得到的金屬氧化物的XRD以及SEM圖形。SEM圖片顯示得到的納米顆粒相對(duì)均勻,大小約為30 nm。XRD圖與標(biāo)準(zhǔn)圖譜比較,證實(shí)得到的金屬氧化物是四氧化三鐵。

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4 結(jié) 論

    基于MOSFET作為開(kāi)關(guān)管的交直流疊加電源,在電化學(xué)腐蝕實(shí)驗(yàn)中取得了很好的效果。采用調(diào)頻控制逆變橋電路,從而使電源始終工作在最佳頻率。與其他電鍍電源不同,其頻率、交直流電壓均可調(diào),動(dòng)態(tài)響應(yīng)快,功率大,電流最大可達(dá)10 A。

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作者信息:

王勝利,吳云峰,唐  輝,胡波洋,苗  玲

(電子科技大學(xué) 能源科學(xué)與工程學(xué)院,四川 成都611731)

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