7 月 1 日消息，據(jù)臺(tái)媒《工商時(shí)報(bào)》報(bào)道，臺(tái)積電將在 2024~2025 年接收超 60 臺(tái) EUV 光刻機(jī)，而其今明兩年在 EUV 光刻機(jī)上的投入將超 4000 億新臺(tái)幣（當(dāng)前約 896.61 億元人民幣）。

報(bào)道表示，ASML 的 EUV 光刻機(jī)目前供應(yīng)緊張，從下單到交付的整體周期已達(dá) 16~20 個(gè)月。

臺(tái)積電今明兩年將分別下達(dá)約 30 和 35 臺(tái)的 EUV 光刻機(jī)訂單，這些訂單中的大部分將從 2026 年開始交付。

臺(tái)媒援引供應(yīng)鏈消息指出，ASML 對(duì) 2025 年產(chǎn)能的規(guī)劃是 20 臺(tái) High-NA EUV 光刻機(jī)、90 臺(tái) EUV 光刻機(jī)和 600 臺(tái) DUV 光刻機(jī)。

▲ ASML 目前最先進(jìn)的 0.33NA EUV 光刻機(jī) NXE:3800E

根據(jù)臺(tái)積電官方路線圖，其目前已規(guī)劃的最先進(jìn)工藝 16A 將于 2026 年量產(chǎn)，仍采用傳統(tǒng) 0.33NA EUV 光刻機(jī)。換句話說(shuō)，臺(tái)積電暫未考慮在量產(chǎn)制程中導(dǎo)入 High-NA。

雖然 ASML 方面已確認(rèn)將在 2024 年內(nèi)向臺(tái)積電交付 High-NA EUV 光刻機(jī)，但這一機(jī)臺(tái)僅用于制程開發(fā)目的。

臺(tái)媒也表示，臺(tái)積電暫無(wú)在 2025~2026 年引入量產(chǎn)用 High-NA EUV 光刻機(jī)的規(guī)劃。