本報合肥1月7日電（記者常河 通訊員王敏）中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)郭光燦院士團隊任希鋒教授等人與新加坡國立大學(xué)仇成偉教授、郭強兵博士等合作，首次利用新型二維材料NbOCl2的非線性過程實現(xiàn)了超薄的量子光源，厚度可低至46納米。這是目前國際報道的最薄非線性量子光源。近日該研究成果發(fā)表于《自然》雜志。

　　 小型化、集成化是解決空間光學(xué)量子系統(tǒng)穩(wěn)定性差、不可擴展等問題的理想方案，也是光學(xué)量子計算、量子通信等走向大規(guī)模和實用化的必經(jīng)之路。量子光源作為量子光學(xué)系統(tǒng)不可或缺的部分，其小型化一直是人們研究的重點。任希鋒前期與南京大學(xué)等單位合作，將超構(gòu)表面引入量子信息領(lǐng)域，集成超構(gòu)透鏡陣列與非線性光學(xué)晶體，實現(xiàn)了100路徑參量下轉(zhuǎn)換，制備了超高維量子糾纏態(tài)和多光子源。

　　 二維材料的層內(nèi)晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，而原子層間的相互作用力要弱很多。基于這種特性，單層二維材料可以在保持原子尺度厚度的同時也保持物理性質(zhì)的穩(wěn)定，使得二維材料可以穩(wěn)定且靈活地與各種微納尺度光學(xué)器件直接耦合，因此被廣泛應(yīng)用在集成光子芯片的各個重要組成部分之中。常見的二維材料（WS2、WSe2等）雖然具有很大的二階非線性系數(shù)，但是單層厚度太薄（<1納米），從而導(dǎo)致整體產(chǎn)生的非線性信號強度很低。如果增加材料的層數(shù)，又會由于多層堆疊造成的空間對稱性使得二階非線性過程減弱甚至消失。

　　 此次研究中，合作者們采用了一種新型NbOCl2材料，它不僅具有常見單層二維材料所特有的高二階非線性系數(shù)，更重要的是它的層間電子耦合弱并且空間結(jié)構(gòu)非對稱。這種特性使得它的二階非線性信號強度會隨著二維材料層數(shù)的增加而增加，可超過單層二維材料WS2倍頻強度兩個數(shù)量級以上。

　　 合作者們進一步測試了多層NbOCl2二維材料的自發(fā)參量下轉(zhuǎn)換過程，也對參量光信號強度隨二維材料厚度的變化關(guān)系進行了測量，實驗結(jié)果和理論預(yù)期完全吻合。

　　 研究人員認為，該研究不僅為光學(xué)量子信息研究提供了一種可集成的量子光源，也為二維材料的非線性研究開辟了一個新的方向。

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