《電子技術(shù)應(yīng)用》
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突破!國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)7nm芯片試產(chǎn)!

2021-08-27
來源:中國(guó)半導(dǎo)體論壇
關(guān)鍵詞: 7nm 芯片

  8月27日消息, 今日上午,中國(guó)互聯(lián)網(wǎng)絡(luò)信息中心(CNNIC)發(fā)布第 48 次《中國(guó)互聯(lián)網(wǎng)絡(luò)發(fā)展?fàn)顩r統(tǒng)計(jì)報(bào)告》,報(bào)告指出,我國(guó)已成功實(shí)現(xiàn)7nm芯片試產(chǎn)!

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  2021年3月,由我國(guó)科研人員主導(dǎo)的國(guó)際團(tuán)隊(duì)宣布研發(fā)出一款新型可編程光量子計(jì)算芯片,能實(shí)現(xiàn)多粒子量子漫步的完全可編程動(dòng)態(tài)模擬 ;4 月國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn) 7nm 芯片試產(chǎn) ,6 月中國(guó)科學(xué)院成功設(shè)計(jì)出 14nm 的“香山”芯片 ,8 月中芯國(guó)際 FinFET 工藝已達(dá)每月 1.5 萬(wàn)片量產(chǎn)水平 ,高端芯片領(lǐng)域取得了階段性成果。

  據(jù)公眾號(hào)中國(guó)半導(dǎo)體論壇了解,早在去年,就傳出我國(guó)芯片制造巨頭企業(yè)進(jìn)擊7nm工藝制程芯片領(lǐng)域。受到某些因素的影響,ASML沒給我國(guó)提供EUV光刻機(jī),不過這并沒有阻止國(guó)內(nèi)芯片技術(shù)前進(jìn)的腳步。該企業(yè)改為采用DUV光刻機(jī)和“N+1”技術(shù),兩者相結(jié)合,能夠使DUV光刻機(jī)的效能發(fā)揮到最好,所制成的7nm芯片能夠與EUV光刻機(jī)的7nm工藝技術(shù)比肩。

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  可以說,實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)7nm芯片的試產(chǎn),對(duì)國(guó)內(nèi)高科技企業(yè)的快速發(fā)展有著重要意義。

  大部分人意識(shí)到芯片的重要性還是因?yàn)槿A為被美國(guó)制裁。華為作為全球?qū)嵙ψ顝?qiáng)通訊企業(yè),它快速發(fā)展給美國(guó)帶來了巨大威脅,在這種情況下美國(guó)只能夠?qū)ζ溥M(jìn)行限制。從2019年美國(guó)政府將60多家中國(guó)企業(yè)列入黑名單,在2020年加強(qiáng)對(duì)華為的限制,最終美國(guó)出臺(tái)規(guī)定限制芯片生產(chǎn)商將芯片提供給華為。這時(shí)候我們才意識(shí)到我們無法制造出國(guó)內(nèi)高科技企業(yè)所需要的芯片。

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  從去年開始,我國(guó)多次重磅會(huì)議中都提到加快解決“卡脖子”難題,芯片國(guó)產(chǎn)化的進(jìn)程也就此開始。隨著相關(guān)技術(shù)的攻克,我國(guó)在六月份所生產(chǎn)出的28nm芯片數(shù)量就高達(dá)三百多億,也就是平均一天將近一億多的芯片被我們生產(chǎn)出來,而且在14nm芯片的制程上面我們也可以低量產(chǎn)出,我國(guó)已經(jīng)在中低端芯片的領(lǐng)域中占領(lǐng)了一定的市場(chǎng)份額。

  今日,國(guó)互聯(lián)網(wǎng)絡(luò)信息中心宣布國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)7nm芯片試產(chǎn),說明我國(guó)已經(jīng)具備制造高端芯片的能力,相信在我們的創(chuàng)新技術(shù)不斷積累之下,7nm芯片的量產(chǎn)也會(huì)很快實(shí)現(xiàn)。

  



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