眾所周知,光刻機(jī)是卡住國(guó)產(chǎn)芯片制造的重要設(shè)備之一。目前國(guó)內(nèi)的芯片制造企業(yè)們,使用的光刻機(jī)絕大部分是ASML進(jìn)口,還有部分是從佳能進(jìn)口的。
特別是高端一點(diǎn)的光刻機(jī),比如193nm ArF浸潤(rùn)式光刻機(jī),可用于14nm,就只能從ASML進(jìn)口。至于通夠用于7nm及以下工藝的EUV光刻機(jī),只有ASML能生產(chǎn),并不能賣給中國(guó)大陸廠商。
而國(guó)產(chǎn)最強(qiáng)的光刻機(jī)是上海微電子生產(chǎn)的 SSX600,最高的精度還處在90nm,即90nm以下的芯片制造,就必須要進(jìn)口光刻機(jī)了。
所以如何將國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)提升上來(lái),達(dá)到當(dāng)前國(guó)產(chǎn)芯片的制造水平,已經(jīng)是迫不及待的問(wèn)題了,不說(shuō)EUV,好歹來(lái)個(gè)DUV光刻機(jī),也就是193nm ArF浸潤(rùn)式光刻機(jī)吧,這樣至少能夠撐到7nm以上。
之前有各種說(shuō)法,基本上都是講上海微電子的DUV光刻機(jī)快要出來(lái)了,能夠支持到28nm工藝,但后來(lái)基本被證實(shí)不太靠譜,因?yàn)闆](méi)有按照之前的時(shí)間發(fā)布。
而近日,國(guó)外媒體Verdict又來(lái)了一個(gè)最新的振奮人心的報(bào)道,稱“中國(guó)國(guó)產(chǎn)28nm DUV光刻機(jī)計(jì)劃在今年年底前從上海微電子(SMEE)生產(chǎn)出來(lái)。”
并且表示,這臺(tái)設(shè)備能夠用于制造48nm-28nm芯,另外還表示到2023年,上海微電子的光刻技術(shù),將用于制造20nm的5G芯片。
有圖有真相
當(dāng)然,鑒于這個(gè)消息并不是官方消息,也不一定是真的,但相信絕大部分人都愿意相信這是真的,因?yàn)橐坏┱娴目梢愿愣―UV光刻機(jī),用于28nm工藝了,那么也就意味著在28nm這個(gè)階段,差不多可以實(shí)現(xiàn)全國(guó)產(chǎn)了,這是中國(guó)芯的一大步啊。
那么接下來(lái),就看看年底能不能推出DUV光刻機(jī),用于28nm了,讓我們拭目以待吧,希望這次不是假的。
