美光技術(shù)公司正在使用極紫外（EUV）光刻技術(shù)來加快DRAM的開發(fā)。它正在參加由世界排名第一和第二的DRAM制造商三星電子和SK Hynix發(fā)起的競賽。
美光科技公司正在尋找工程師，他們將通過各種招聘站點負責開發(fā)EUV設施。工程師將負責開發(fā)EUV掃描儀技術(shù)，管理新的EUV設備并與ASML（世界上唯一的EUV設備生產(chǎn)商）進行通信。
美光在全球DRAM市場中排名第三，僅次于三星電子和SK Hynix。它的市場份額約為20％。
美光最近在NAND閃存領(lǐng)域首次推出了176層產(chǎn)品。與其他頂級DRAM制造商一樣，該公司正在生產(chǎn)10納米第三代（1z）產(chǎn)品。預計該芯片制造商將在2021年上半年推出第四代（1a）DRAM。
但是，美光與三星電子和SK海力士之間的主要區(qū)別在于，美光不會將EUV技術(shù)應用于1a DRAM。
美光公司在最近的一份聲明中建議，鑒于高成本和技術(shù)局限性，它甚至可能不會將EUV技術(shù)應用于下一代DRAM“ 1-beta”產(chǎn)品。
美光公司副總裁Scott DerBauer表示，該公司將在1-delta產(chǎn)品的生產(chǎn)中引入EUV工藝。
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