2月20日，三星宣布其首條基于極紫外光刻（EUV）技術的半導體生產線V1已經開始大規模量產。

　　三星表示，一季度V1產線將開始首批交付7nm和6nm的移動芯片，預計到2020年年底，7nm以下的產能將增加兩倍。

　　圖片來源：三星官網

　　三星 V1生產線位于韓國華城，2018年2月破土動工，于2019年下半年開始測試晶圓生產。

　　“隨著產量的增加，V1系列將增強三星響應市場需求的能力，并擴大為客戶提供支持的機會。” 三星總裁ES Jung博士說道。

　　三星指出，V1生產線目前正在生產7nm、6nm移動芯片，并將繼續采用更精細的電路，直至3nm工藝節點。

　　根據該公司的計劃，到2020年底，V1生產線的累計總投資將達到60億美元，預計7nm及以下工藝節點的總產能將比2019年增長兩倍。

　　三星表示，隨著半導體幾何尺寸越來越小，EUV光刻技術的采用變得越來越重要，為5G，AI和汽車等下一代應用提供了最佳選擇。

　　隨著V1生產線的投入使用，三星現在在韓國和美國共有6條生產線，其中包括5條12英寸生產線和1條8英寸生產線。

　　圖片來源：三星官網

　　此前梳理發現，早在2018年6月，臺積電已透露量產7nm工藝，2019年二季度量產7nm EUV工藝。

　　另外，對于7nm以下工藝，2月18日，路透社報道指出，三星已獲得高通5nm部分訂單。雖然臺積電今年也將量產5nm工藝，但三星仍希望通過提升這項工藝，在與臺積電激烈的競爭中獲得市場份額。