作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司，荷蘭ASML公司去年出售了26臺EUV光刻機(jī)，主要用于臺積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝，預(yù)計今年出貨35臺EUV光刻機(jī)。

　　目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C，兩者基本結(jié)構(gòu)相同，但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計，維護(hù)更加便捷，平均維修時間將從48小時縮短到8-10小時，支持7nm、5nm。

　　此外，NXE:3400C的產(chǎn)能也從之前的125WPH（每小時處理晶圓數(shù)）提升到了175WPH。

　　不論NXE:3400B還是NXE:3400C，目前的EUV光刻機(jī)還是第一代，主要特點(diǎn)是物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0.33。

　　根據(jù)光刻機(jī)的分辨率公式，NA數(shù)字越大，光刻機(jī)精度還會更高，ASML現(xiàn)在還研發(fā)NA 0.55的新一代EUV光刻機(jī)EXE:5000系列，主要合作伙伴是卡爾蔡司、IMEC比利時微電子中心。

　　EXE:5000系列的下一代光刻機(jī)主要面向后3nm時代，目前三星、臺積電公布的制程工藝路線圖也就到3nm，2nm甚至1nm工藝都還在構(gòu)想中，要想量產(chǎn)就需要新的制造裝備，新一代EUV光刻機(jī)是重中之重。

　　根據(jù)ASML的信息，EXE:5000系列光刻機(jī)最快在2021年問世，不過首發(fā)的還是樣機(jī)，真正用于生產(chǎn)還得等幾年，樂觀說法是2023年或者2024年才有可能看到NA 0.55的EXE:5000系列光刻機(jī)上市。