11月7日消息，據外媒報道，荷蘭半導體設備供應商阿斯麥爾（ASML）將暫時停止向芯片制造商中芯國際供應EUV極紫外線微影設備。
有消息人士透露稱：“ASML是為了避免因供應最先端設備給中國、因而刺激到美國，因此決定暫時中止交貨”。消息人士還補充表示：“但與此同時，ASML不想讓中國客戶感到不安，因為那里是其增長最快的市場。”
所謂的EUV極紫外線微影設備，是使用通稱極紫外線之極短波（13．5nm）光線的微影技術，能加工至既有ArF 準分子雷射光微影技術不易達到之20nm 以下的精密尺寸。不但能降低晶圓制造時光罩使用數量，以降低生產成本，并提高生產良率，也因能加工過去ArF 準分子雷射光微影技術不易達到的20nm 以下之精密尺寸，更有助半導體產業摩爾定律（Moore＇s law）再往下延伸，讓半導體產業發展持續精進。
目前，ASML是EUV極紫外線微影設備的獨家制造商，ASML營收占比中，有超過一半來自中韓兩國，中芯國際更是其在華主要客戶。去年4月份，中芯國際向ASML訂購的EUV光刻機原定于2019年底交付，到2020年中期完成安裝，如今遇上停止斷供一事，無疑是兩敗俱傷的行為。
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