10月18日，在上海舉辦的“2019中國（上海）集成電路創新峰會”上，與會專家透露，上海市將牽頭制定“中國集成電路技術路線圖”（下稱“路線圖”），去年在上海揭牌的國家集成電路創新中心將主導路線圖制定。
根據復旦大學微電子學院院長、國家集成電路創新中心總經理張衛介紹，路線圖包括六大部分，分別是集成電路制造技術現狀和發展趨勢、先進光刻工藝發展趨勢、邏輯工藝技術、存儲器技術、超越摩爾特制化技術、第三代功率半導體技術。
張衛表示，路線圖借鑒了ITRS模式，并將結合中國集成電路產業實際，嘗試預測中國集成電路技術發展的路徑選擇和規劃周期，最終為產業發展提供幫助。
ITRS即美國半導體協會于1992年編寫的半導體技術路線圖，累計發布9個版本，對國際半導體產業發展起到了重要的指導作用。
張衛強調，編制路線圖是一種嘗試，通過路線圖試圖明確未來集成電路產業技術發展的目標、方向、重點、關鍵問題和時間節點等。
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