據(jù)臺(tái)灣媒體MoneyDJ報(bào)道，日本對(duì)韓國(guó)實(shí)施半導(dǎo)體原料出口管制，將引發(fā)新一波科技冷戰(zhàn)，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)掃陷入斷鏈危機(jī)。市場(chǎng)則高度關(guān)心，韓國(guó)半導(dǎo)體大廠三星（Samsung）是否會(huì)因此受到打擊，而晶圓代工龍頭臺(tái)積電或?qū)闹惺芑荨I(yè)內(nèi)專(zhuān)家分析，短期內(nèi)應(yīng)不會(huì)發(fā)生轉(zhuǎn)單效應(yīng)，但長(zhǎng)期來(lái)看，這將打亂三星在發(fā)展先進(jìn)制程的腳步，臺(tái)積電可望再拉大與對(duì)手之間的距離、讓其領(lǐng)先地位更加穩(wěn)固。
光刻膠導(dǎo)入難度高 良率影響巨大
日本政府自7月4日起對(duì)韓國(guó)三項(xiàng)半導(dǎo)體材料實(shí)施出口管制，分別為使用在智能面板的氟化聚醯亞胺 （Polyimide），以及用在晶圓制程的光刻膠（photoresist）和高純度氟化氫（Hydrogen fluoride），之后又將韓國(guó)從白名單中移除；韓國(guó)半導(dǎo)體公司雖可透過(guò)專(zhuān)案申請(qǐng)?jiān)线M(jìn)口，但無(wú)法享有過(guò)去的簡(jiǎn)化程序。
韓國(guó)也沒(méi)有坐以待斃，除給予同等還擊外，據(jù)韓媒報(bào)導(dǎo)，政府更計(jì)劃在明（2020）年大幅提高國(guó)家研發(fā)支出，以協(xié)助國(guó)內(nèi)企業(yè)研發(fā)關(guān)鍵技術(shù)，包括工業(yè)材料與設(shè)備。由于，日本在這三項(xiàng)半導(dǎo)體原料的供應(yīng)幾乎呈現(xiàn)壟斷，外界擔(dān)憂(yōu)此將不利韓國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，甚至蔓延到全球供應(yīng)鏈。
究竟這對(duì)韓國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)沖擊為何？以晶圓代工來(lái)看，一位業(yè)內(nèi)專(zhuān)家分析，雖然三項(xiàng)原料缺一不可，但從時(shí)效性的影響來(lái)看，以管制光刻膠的沖擊最大。這次日方對(duì)韓國(guó)主要管制EUV（極紫外光刻）光刻膠，其扮演著先進(jìn)制程的關(guān)鍵推手，更是7nm制程以下的標(biāo)配；而韓國(guó)高達(dá)9成的光刻膠都仰賴(lài)日本進(jìn)口，韓國(guó)公司想要在短期間內(nèi)建立好第二供應(yīng)鏈（second source）、并非易事。
他進(jìn)一步說(shuō)明，先不論韓國(guó)半導(dǎo)體公司找不找的到第二供應(yīng)鏈，或是研發(fā)出自產(chǎn)材料，晶圓代工原料的驗(yàn)證時(shí)程相當(dāng)長(zhǎng)，從RD部門(mén)做原料及機(jī)臺(tái)的匹配，到小量生產(chǎn)、上千片的試產(chǎn)，再到正式的導(dǎo)入，至少得花上半年到一年的時(shí)間，只要日方管制未除，先進(jìn)制程發(fā)展勢(shì)必受阻。
此外，從良率來(lái)看，光刻機(jī)（ Scanner ）制造速度相當(dāng)快，每日約2，000－3，000片晶圓，如果原料出問(wèn)題，影響巨大，從臺(tái)積電年初爆發(fā)的光刻膠事件即可應(yīng)證；而高純度氟化氫則是用在濕式蝕刻機(jī)（Wet etching），其制造速度慢、約光刻機(jī)的八分之一至十分之一，若原料有問(wèn)題，報(bào)廢的晶圓相對(duì)少，對(duì)良率的影響也較小。
至于在日韓貿(mào)易戰(zhàn)下，臺(tái)積電是否可以從中得利？該名專(zhuān)家表示，臺(tái)積電在全球晶圓代工7nm制程市占率很高（Trendforce預(yù)估達(dá)9成以上），推估臺(tái)積因日韓貿(mào)易戰(zhàn)而獲得轉(zhuǎn)單的空間相對(duì)有限；但以長(zhǎng)期來(lái)看，三星在先進(jìn)制程的發(fā)展上被綁上手腳，這將更加鞏固臺(tái)積的長(zhǎng)期領(lǐng)先地位。
臺(tái)積電7nm趨近滿(mǎn)載5nm進(jìn)度順利
事實(shí)上，自從格羅方德（GLOBALFOUNDRIES）、聯(lián)電相繼宣布退出先進(jìn)制程后，臺(tái)積電、三星就呈現(xiàn)捉對(duì)廝殺狀態(tài)，而臺(tái)積起步較早、取得先發(fā)優(yōu)勢(shì)，目前包括蘋(píng)果（APPLE）、華為海思、高通、超微（AMD）…等都是大客戶(hù)；臺(tái)積于7月法說(shuō)時(shí)更表示，7nm產(chǎn)能非常滿(mǎn)，至年底占營(yíng)收比重將超過(guò)25％。
某設(shè)備商主管透露，因客戶(hù)需求強(qiáng)勁，臺(tái)積原本預(yù)計(jì)明年第二季7nm產(chǎn)能達(dá)到10萬(wàn)片／月以上，目前已陸續(xù)購(gòu)進(jìn)新設(shè)備，要提前到今年底前完成；此外， 5nm進(jìn)度也很順利，臺(tái)積下半年以來(lái)連續(xù)上調(diào)產(chǎn)能規(guī)劃，自3．9萬(wàn)片／月調(diào)高到4．5萬(wàn)片、再到5萬(wàn)片／月，反映客戶(hù)需求十分正向，預(yù)計(jì)明年第一季可量產(chǎn)。
臺(tái)積電近期也調(diào)整全年資本支出，先前臺(tái)積估計(jì)2019年將落在100～110億美元，而為因應(yīng)7nm、5nm需求，將加速擴(kuò)充產(chǎn)能，上調(diào)資本支出至110億美元以上。
對(duì)比之下，日前一度傳出三星搶下NVIDIA 7nm EUV訂單，NVIDIA隨即發(fā)表聲明否認(rèn)，并強(qiáng)調(diào)合作對(duì)象依然是臺(tái)積電，迅速打臉市場(chǎng)傳聞。雖然，三星不停展現(xiàn)發(fā)展先進(jìn)制程決心，積極搶攻7nm市占，更發(fā)下豪語(yǔ)要在2020年量產(chǎn)3nm、超車(chē)臺(tái)積，但從實(shí)際接單來(lái)看，似乎沒(méi)有太大斬獲。
臺(tái)積電先進(jìn)制程規(guī)劃：
臺(tái)積先進(jìn)制程可望領(lǐng)先三星兩年以上
日韓貿(mào)易戰(zhàn)牽動(dòng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，近日看似有和緩跡象，據(jù)外媒報(bào)導(dǎo)，日本政府為了強(qiáng)調(diào)此并非禁運(yùn)，上周（8／7）對(duì)EUV光刻膠發(fā)出了出口許可。對(duì)此，業(yè)內(nèi)人士則認(rèn)為，日本對(duì)韓管制半導(dǎo)體關(guān)鍵原料出口，等同于給韓國(guó)半導(dǎo)體公司戴上緊箍咒，除非管制取消或韓國(guó)培育出自主原料生產(chǎn)，才有可能將它取下。
市場(chǎng)預(yù)估，原先臺(tái)積電在先進(jìn)制程技術(shù)領(lǐng)先三星1．5－2年，在這次爆發(fā)日韓紛爭(zhēng)后，三星在先進(jìn)制程的布局上恐受影響，有可能再拉大雙方距離到兩年以上；尤其，發(fā)展先進(jìn)技術(shù)是場(chǎng)與時(shí)間、資金、技術(shù)的全力競(jìng)賽，在任何一點(diǎn)喪失優(yōu)勢(shì)，都有可能輸了賽局。