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150mm晶圓時代已逝?大錯特錯啦!

2018-07-23
關鍵詞: 晶圓 無線通信 AR

您是否認為在150mmarget="_blank">晶圓上制作芯片已經(jīng)過時了?再想一想呢!當今市場的大趨勢——自動駕駛汽車、電動汽車、5G無線通信、增強現(xiàn)實和虛擬現(xiàn)實(AR/VR)、醫(yī)療保健,這些應用都是在150mm晶圓上進行的芯片工藝創(chuàng)新。


據(jù)麥姆斯咨詢報道,雖然大眾把注意力都集中于誰家在摩爾定律競爭中處于領先工藝節(jié)點位置,但功率器件、光電探測器和波導的重大進步則是基于諸如150mm甚至100mm的碳化硅(SiC)和砷化鎵(GaAs)晶圓上實現(xiàn)的。


光電子驅(qū)動砷化鎵(GaAs)晶圓市場增長


GaAs晶圓已經(jīng)是激光器和LED技術領域幾十年的老朋友了,主要應用有復印機、DVD播放器甚至激光指示器。近年來,LED推動了化合物半導體技術的進一步發(fā)展。新的進展來自兩類光電子應用:用于數(shù)據(jù)網(wǎng)絡的激光光源和波導技術,以及用于先進3D成像的激光二極管和光電探測器技術。


在GaAs襯底上制造的器件常常以多片晶圓批量式進行工藝步驟,這一部分歸因于該類應用特別是LED照明對成本的高度敏感性。許多傳統(tǒng)的工藝步驟如MOCVD機臺生長出不同材料堆疊層,中間過程無需光刻或刻蝕工藝步驟,直到后續(xù)制作接觸孔才需要光刻或刻蝕工藝。


如今,盡管大多數(shù)情況還是按部就班,但產(chǎn)量、良率和價格等方面的壓力則需要一些特定類型的設備,如垂直腔表面發(fā)射激光器(VCSEL)在可能的情況下將使用單片式工藝。這與傳統(tǒng)的一次性批量處理多片晶圓不同,這些三五族(III-V)材料技術最終將通過3D人臉識別等新興應用進入更廣泛的消費市場。

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典型VCSEL器件橫截面示意圖,越來越多的這類器件采用單片式工藝


iPhone給150mm晶圓吃了一顆“定心丸”


蘋果iPhone X是首款具備前置3D攝像頭的智能手機,開啟了3D人臉識別智能手機時代。在2017年11月之前,GaAs襯底材料還主要用于蜂窩手機的射頻前端(RFFE)和其它射頻放大器。在iPhone X中,150mm的GaAs襯底材料用于RFFE的元器件制造,以及用于3D人臉識別的VCSEL和光電探測器。

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如今,在iPhone X的材料清單(BOM)中列出的約121顆器件中,約15顆器件是在150mm晶圓上制作的。這代表什么呢?意味著在iPhone X中,超過芯片總數(shù)的12%和晶圓總面積的約2%來自150mm晶圓。按芯片數(shù)量進行統(tǒng)計,iPhone X中使用到的集成電路(IC),87顆來自200mm晶圓,19顆來自300mm晶圓。相比之下,硅基200mm和300mm晶圓的面積分別約為32%和66%。


與200mm和300mm晶圓相比,150mm晶圓上的器件數(shù)量和所能支持的應用還是相對較少。然而,如果我們回顧iPhone的BOM,會發(fā)現(xiàn)一個有趣的趨勢:自2012年以來,按累積晶圓面積來看,300mm晶圓上制造的器件數(shù)量保持相對平坦的增長曲線(節(jié)點尺寸的減小與復雜度不斷增加引起的面積增加所抵消),而200mm和150mm晶圓上制造的器件卻分別以9.5%和6%的復合年增長率獲得增長。如此令人印象深刻的增長態(tài)勢來自于200mm和150mm晶圓超越摩爾器件緩慢增長的支撐。iPhone每年超過2億美元的銷量,帶來了每年超過30萬片150mm晶圓的消耗量,這里還未統(tǒng)計其他手機制造商對功率器件、其他平臺對光電子應用的需求量。


碳化硅(SiC)應用持續(xù)升溫


150mm晶圓的另一突出應用領域是SiC功率MOSFET。如今,SiC功率MOSFET主要用于工業(yè)應用中的高功率開關,但將越來越多地應用于電動汽車(EV)。如今開發(fā)和生產(chǎn)的SiC MOSFET結(jié)構有兩種主要類型:平面式MOSFET和溝槽式MOSFET。

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SiC MOSFET器件結(jié)構


在1997年,一輛豐田普銳斯大約消耗0.97片150mm晶圓的器件,涉及多種應用,其中最主要的應用則是功率轉(zhuǎn)換。到2015年,這個數(shù)字已經(jīng)上升到每輛車1.18片150mm晶圓。

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半導體器件在豐田普銳斯車型上的使用情況


隨著汽車功率轉(zhuǎn)換系統(tǒng)的復雜性增加,對功率模塊的使用數(shù)量和性能要求也隨之增加。這可是SiC材料的“拿手”技術。與硅基器件相比,SiC功率MOSFET能處理更高的功率并承受更高的熱負載,這對電動汽車來講,可以滿足降低總重量以提高效率的理想特性。業(yè)界都對SiC MOSFET的擊穿電壓高且能在高溫下運行頗為認可,基于SiC襯底的IC將是未來電動汽車的關鍵元器件。


然而,電動汽車市場將以什么速度發(fā)展還無法準確預測。需要注意的是,未來十年里在美國上路的輕型客運車輛中15%都是電動汽車。隨著這個數(shù)字的增加和車輛上越來越多的應用需要高壓開關,SiC晶圓制造商如位于美國達勒姆市的科銳(Cree)已經(jīng)越來越看好150mm晶圓的產(chǎn)品應用前景。其子公司W(wǎng)olfspeed(位于美國三角研究園)作為SiC功率MOSFET器件制造商,更是“下注”2023年SiC器件的可用市場總額(TAM)將迅速增長到50億美元。

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科銳將SiC器件市場做了這樣的劃分:SiC功率MOSFET,市場規(guī)模為25億美元;用于光伏市場的SiC功率逆變器,市場規(guī)模為23億美元;應用在消費類便攜式充電器中的SiC器件,市場規(guī)模為2億美元。更確切地說,SiC器件產(chǎn)業(yè)仍處于初級階段,150mm晶圓的增長潛力巨大。


單從晶圓投料來看,科銳預計2023年150mm晶圓的用量將達到200萬片,如果按目前每年4.5萬片的投料量來計算,期間的復合年增長率將達到110%,增長速度令人驚嘆!雖然科銳對晶圓投料量和器件TAM前景非常樂觀,但著名市場研究公司Yole則持更保守的觀點。Yole預計2023年150mm SiC晶圓的用量為15萬片,復合年增長率超過50%。


150mm SiC晶圓制造設備有何特殊之處?


那么,150mm SiC晶圓制造設備有何特殊要求?雖然SiC晶圓制造的“魔法”在于晶錠的生長過程本身,但最終形成SiC晶圓則需要對晶錠進行一些后處理步驟,例如研磨、化學機械研磨(CMP)、SiC外延、注入、檢測、化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)。SiC晶圓因其半透明性質(zhì)和材料硬度而面臨許多挑戰(zhàn),這需要對關鍵工藝步驟設備進行重新設計或改裝,包括CMP、SiC外延(>1600°C)、注入(>500°C)和對SiC生長所特有的晶體缺陷進行檢測。


150mm晶圓前景光明


著名半導體設備廠商Applied Materials(應用材料)公司一直致力于150mm晶圓制造設備的研發(fā),也密切關注包括光電子和SiC功率MOSFET等器件對先進材料的需求。雖然對上述器件的200mm晶圓制造設備的研發(fā)也在進行中。但很明顯地看到,150mm晶圓技術的未來是光明的。事實上,150mm晶圓制造產(chǎn)業(yè)還處于非常活躍的狀態(tài)。


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