電子制造和半導體封裝精密清洗產品、工藝方案及培訓服務提供商ZESTRON將于3月22日出席2018 CEIA中國電子智能制造系列論壇之重慶，資深應用技術工程師丁一先生將為您帶來《主流清洗工藝與PH中性清洗液的應用》的演講。
隨著電子行業對產品可靠性要求的提高，越來越多的企業希望通過建立或優化清洗工藝來獲得更高的產品可靠性和更經濟節約的成本方案。本次演講將會展示主流清洗工藝以及分享ZESTRON清洗劑中所包含的核心技術：MPC? （微相清洗技術）和FAST? （快效表面活性劑技術）。這些創新型的解決方案專門設計用于徹底去除有機和無機的污染物殘留物，如助焊劑、錫膏及SMT膠水殘留等。
CEIA中國電子智能制造系列論壇重慶將在重慶富力凱悅酒店舉行，如需報名或了解清洗工藝相關的更多資訊，請關注ZESTRON微信公眾號或通過infochina@zestron.com與我們取得聯系，我們真誠地歡迎您參加此次論壇，我們的工藝工程師也樂于為您解決日常工作中的清洗難題。
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