據相關機構統計，整個2016年，ASML銷售了139臺光刻機。在半導體設備行業(yè)的市場份額在58％左右，其他的對手包括尼康，佳能等。

當然了，半導體設備行業(yè)最大的故事是下一代光刻機——EUV，ASML在這方面是毫無疑問的霸主，其極紫外光刻機去年銷售了四臺，單臺的平均售價達1．1億美元，最新EUV有望在未來幾年成為主流。

隨著半導體制程工藝演變，工藝推進的成本也越來越高，如今能負擔起最新制程研發(fā)的基本只剩四家：GlobalFoundries，Intel，三星和臺積電。這幾家公司采購新一代光刻機的計劃對整個行業(yè)的推動都極為重要，接下來幾代制程工藝極紫外光刻機是核心，Intel，三星，臺積電都曾對ASML投資以支持其產品研發(fā)。

三星計劃在2018年利用EUV實現7nm工藝；臺積電今年已經加快了7nm步伐，將在今年二季度測試EUV，計劃2019年進入5nm制程；Intel將在2020年進入7nm；GlobalFoundries將在2018年生產7nm芯片，2020年用到EUV。ASML曾在1月表示公司2018年的首批訂單已經到手，可見需求量之巨大。

誰會受傷？

由于成本技術原因，ASML的對手尼康，佳能在高端光刻機上競爭力明顯不足，但在中端產品市場仍有一定份額。置購成本（Cost of Ownership）是衡量購買哪個系統的一個關鍵指標，從尼康和佳能的CoO數據可以看出，影響置購成本的因素有很多，不僅包括設備，還包括材料等等。

EUV的大獲成功對尼康和佳能肯定都不是一件好事。更重要的是，對整個半導體行業(yè)的供應也會有巨大影響，包括其他設備，材料等方面，最容易受影響的可能就是AMAT，LRCX和PLAB這些上一代光刻設備生產廠家。