《電子技術(shù)應(yīng)用》
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傳SK海力士72層3D NAND存儲器明年量產(chǎn)

2016-12-28
關(guān)鍵詞: NAND SK 芯片 Flash

SK 海力士最先進72 層3D NAND 記憶體傳明年開始量產(chǎn),韓聯(lián)社26 日引述知情人事消息報導(dǎo)指出,海力士計劃于2017 上半年完成芯片設(shè)計,位在利川(Icheon)的M14 廠將可在下半年開始生產(chǎn)。

若按計劃進行,海力士將成為全球第一個量產(chǎn)72 層3D NAND 的記憶體廠。為因應(yīng)市場需求增溫,海力士上周已宣布將在南韓與中國兩地,投資3.15 兆韓圜來增加DRAM 與NAND 記憶體產(chǎn)能。

隨著微縮制程遭遇瓶頸,業(yè)者紛紛改以3D 垂直方式堆疊記憶體做突破,但制程技術(shù)各不相同。目前技術(shù)領(lǐng)先的三星已于2013 年量產(chǎn)48 層3D NAND 記憶體,至于64 層3D NAND 芯片也將在今年底開始投產(chǎn)。

據(jù)市調(diào)機構(gòu)DRAMeXchange 統(tǒng)計,三星第三季NAND 記憶體營收來到37.44 億美元,市占率較前季進步0.3 個百分點至36.6%。東芝以19.6% 位居第二,Western Digital、海力士與美光分居三、四、五名,市占率依序為17.1%、10.4% 與9.8%。

3D堆疊/制程微縮競爭白熱化NAND供應(yīng)商技術(shù)差距縮小

NAND Flash記憶體供應(yīng)商為滿足客戶不斷增加的儲存空間需求,正分別從制程微縮與3D堆疊兩個方向來提升NAND Flash的儲存密度,且彼此間推出新世代產(chǎn)品的時間落差預(yù)料將明顯縮小??梢灶A(yù)料的是,未來固態(tài)硬碟(SSD)等NAND Flash應(yīng)用的單位儲存成本將進一步下滑,開拓出更大的應(yīng)用市場。

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資料顯示,三星(Samsung)、東芝/閃迪(Toshiba/SanDisk)、美光/IM Flash與SK海力士(SK Hynix)等主要NAND Flash記憶體供應(yīng)商,在2016年皆已進入3D NAND時代。其中,進展最快的三星已率先于2015年下半進入48層MLC時代,預(yù)計在2017年初提升到64層MLC、2018年中進入96層MLC;東芝/新帝則持續(xù)追趕三星,先在2016年追上三星目前的進度,并預(yù)期在2017年中推出64層MLC。

進展相對較慢的美光/IM Flash及SK海力士,則已于2016年進入32層MLC時代,并將在2016年底、2017年初推出48層MLC、2018年中推出64層MLC。但值得注意的是,美光/IM Flash還有一條采用3D X-Point新架構(gòu)的產(chǎn)品線將在2016年中開始量產(chǎn)上市,未來將對NAND Flash市場產(chǎn)生何種影響,有待后續(xù)觀察。

而在制程節(jié)點方面,目前四大NAND Flash芯片供應(yīng)商均已進入1y納米世代,彼此之間差異不大。在進入1z納米制程的時間點方面,除了東芝/新帝將在2016年下半率先導(dǎo)入12納米制程,成為業(yè)界第一家進入1z納米制程世代的供應(yīng)商之外,其他三家業(yè)者之間都預(yù)計在2016年底~2017年初進入12納米,時間落差只在一季之內(nèi)。

由于3D結(jié)構(gòu)可顯著提升NAND Flash芯片的儲存密度,因此各家業(yè)者均戮力發(fā)展3D NAND Flash。研究認為,2016年各家業(yè)者的3D NAND Flash產(chǎn)出比重,將從2015年的6%提升到20%。

隨著64層MLC與1z納米制程陸續(xù)到位,2017年單一NAND Flash顆粒的主流容量要達到128Gb以上,預(yù)料將不成問題,屆時SSD、eMMC等NAND Flash儲存應(yīng)用的容量規(guī)格也可望跟著升級,價格競爭力更上層樓。


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