據(jù)悉，三星電子近日宣布，其最新的20nm工藝試驗(yàn)芯片的流片已經(jīng)成功，這也是目前業(yè)內(nèi)最先進(jìn)的半導(dǎo)體制造工藝。
　　
　　三星電子此番利用了美國(guó)加州電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化企業(yè)CadenceDesignSystems提供的一體化數(shù)字流程RTL-to-GDSII。這套基于Encounter的流程和方法完全能夠滿(mǎn)足三星20nm試驗(yàn)芯片從IP集成到設(shè)計(jì)驗(yàn)證的復(fù)雜需求，包括Encounter數(shù)字部署系統(tǒng)、EncounterRTL編譯器、Incisive企業(yè)模擬器、Encounter電源系統(tǒng)、QRCExtraction提取工具、Encounter計(jì)時(shí)系統(tǒng)、Encounter測(cè)試與物理驗(yàn)證系統(tǒng)、EncounterNanoRoute路由等等。
　　
　　三星的試驗(yàn)芯片由ARMCortex-M0微處理器和ARMArtisan物理IP組成，不過(guò)這顆20nm工藝制造的芯片到底包含了多少晶體管、核心面積上又有多大等信息目前并未透露。
　　
　　另?yè)?jù)了解，三星20nm工藝將使用第二代后柵極(GateLast)和高K金屬柵極(HKMG)技術(shù)，第二代超低K電介質(zhì)材料，第五代應(yīng)變硅晶圓，193毫米沉浸式光刻工藝。
　　
　　雖然剛剛流片成功，但是三星已經(jīng)向客戶(hù)開(kāi)放了其20nm早期工藝設(shè)計(jì)套裝(PDK)，方便他們開(kāi)始著手下一代新工藝產(chǎn)品的設(shè)計(jì)。
　　
　　三星在芯片領(lǐng)域的工作其實(shí)已經(jīng)深耕多年，之前就曾和Cadence公司有過(guò)深入合作，包括在IBM領(lǐng)導(dǎo)的CommonPlatform(通用平臺(tái))；聯(lián)盟下的32/28nm工藝，以及低功耗HKMG技術(shù)等。