芯片制造的一項關鍵技術，了解一下？
所屬分類：技術論文
上傳者：zhoubin333
文檔大小：1386 K
標簽： 芯片制造 CMP 仿真
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文檔介紹：CMP 仿真是選擇在芯片制造期間使用最佳 CMP 工藝的寶貴工具。ECD 后產生的大幅表面形貌變化會影響 CMP 后的表面輪廓。 此外，設計上較弱的遠程相互作用是 ECD 后的表面輪廓所固有的，這意味著給定圖形上方的表面高度不僅僅由圖形本身定義，還受相鄰圖形的影響。 能否創建精確的 ECD 后模型對于成功的 CMP 仿真至關重要。
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