《電子技術(shù)應(yīng)用》
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微波電路組裝研究
摘要: 微波電路與低頻電路的不同主要在于接地,互連與微帶線的制造。微波制造技術(shù)是微波電路設(shè)計的一個重要組成部分。對接地的一些關(guān)鍵技術(shù)—焊接裂紋、應(yīng)力、變形、釬連學(xué)等作了研究。同時研究了芯片與微帶線間距的互連、微帶線制作、材料的可焊性及焊接過程等制造技術(shù)。
關(guān)鍵詞: RF|微波 微波電路 接地 微組裝
Abstract:
Key words :

 微波電路通常頻率較高(1GHz以上),是微波集成電路器件通過微帶傳輸線構(gòu)成的一個平面電路、整個無論其圖形如何復(fù)雜,均可簡便地用厚、薄工藝制作在介質(zhì)片上,將基片固定于作為接地板的金屬基座(載體)上就構(gòu)成一個完整的電路。這種電路的制作成本比同功能的波導(dǎo)和同軸電路便宜得多。這種電路由于消除了許多接頭,同時帶來了制作重復(fù)性好、性能優(yōu)良、調(diào)整方便、體積小、重量輕、可靠性高等優(yōu)點,得到了廣泛地應(yīng)用。
微波電路制作一般可分三個階段。微波器件制作→基板微帶線制作并組成功能塊→與金屬基座連接組成微波電路。微波電路由于作用頻率高,其接地要求特別高、接地包括功能塊基片接地與功能塊與金屬基座的接地連接。特別是后者,慣用螺釘連接,由于連接間的空隙,導(dǎo)致功能塊間的串?dāng)_(一般≥0.5dB),插入損耗增加(一般≥1.4dB),同時也帶來了附加電容與振蕩。L波段以上電路已無法獲得穩(wěn)定的電路參數(shù),可靠性低。目前國外已普遍使用釬接方法來實行“大面積釬接”。國內(nèi)也開始摸索和使用。大面積釬接的主要難點在于金屬與陶瓷材料的物理、化學(xué)性能差異太大,易造成陶瓷開裂、不良接頭、變形等。芯片與微帶線互連的長度、拱度,微帶線制作的精度等同樣是影響微波性能的要素。本文主要介紹筆者與同仁們在這方面的研究成果。

1 接地連接的分析和設(shè)計

  微波電路的接地連接主要影響電路串?dāng)_和插入損耗。電路串?dāng)_主要是過長的連接線形成附加電感引起的。插入損耗主要由四分部組成:導(dǎo)體損耗、介質(zhì)損耗、輻射損耗及制作工藝的損耗。
導(dǎo)體損耗指金屬導(dǎo)帶與接地金屬面對傳輸信號
所造成的插入損耗。介質(zhì)損耗指電磁場在金屬導(dǎo)帶和接地面中間的介質(zhì)中傳輸,由填充介質(zhì)引入的插入損耗。焊接缺陷(空洞、孔隙)及其它制作缺陷(介質(zhì)板、導(dǎo)帶¨)均會增加插入損耗[1]。接地連接的設(shè)計原則就是就近接地,大面積(全面積)接地。幾種典型的接地方式是:
(1)接地金屬化通孔:主要連接微帶線與基板接地面。可通過孔金屬化、空心鉚釘、連接銷釘?shù)姆椒▽崿F(xiàn)。如圖1所示。

 

接地通孔設(shè)計  

      

 空心鉚釘  

  

   連接銷釘

圖1 幾種典型的接地方式

  (a)薄膜接地孔—四周金屬化
(b)厚膜接地孔—全孔金屬化
(c)多層厚膜,大面積接地,
采用網(wǎng)狀孔,孔金屬化。
三種方法各有各的技術(shù)難點,特別是薄膜金屬化孔,目前尚處研究階段,一次成功率僅為90%。采用空心鉚釘?shù)姆椒ㄗ羁煽浚招你T釘?shù)闹谱麟y度較大。
(2)接地包邊:為了更大面積的與接地面連接,在條件允許的情況下,可采用直接用銅箔(厚0.10~0.20mm)連接面。如圖2所示。

 

圖2 包邊接地示意圖

  包邊接地比較可靠,但只有在孔徑及邊帶尺寸大的地方進行,而焊接工作也往往只能靠人工進行,要求操作工人的熟練程度高。
(3)接地面與接地板的大面積焊接:用于替代螺釘連接的大面積焊接,是保證接地可靠的主要手段。
微波電路中的傳輸線(微帶線)通常在堅固的介質(zhì)基片(陶瓷、石英……)上用薄膜工藝(蒸發(fā)、濺射……)來制作。隨著新技術(shù)的發(fā)展,微波電路微帶線也有用厚膜、LTCC(低溫共燒陶瓷)技術(shù)制作,近年來也出現(xiàn)非Al2O3的軟基片復(fù)合材料作基片的,但在S波段以上,往往還無法替代陶瓷材料。
陶瓷材料與接地板金屬的連接,即接地面與接地板的連接。慣用螺釘連接,除去裝配和使用過程中容易造成陶瓷基片碎裂外,它已無法滿足微波電路的電、熱性能參數(shù)的要求,近年來已被軟釬接技術(shù)所替代。
由于陶瓷與金屬的化學(xué)、物理焊接性差異極大,特別熱膨脹系數(shù)的差異,造成焊接及使用過程中瓷片開裂、電路失效。這些問題的研究,將在2、3節(jié)中敘述。

2 焊接性能研究

  陶瓷基片與金屬基座焊接時,考慮到陶瓷金屬化(薄、厚膜工藝) 及MIC器件的特性,往往采用軟釬接辦法來實現(xiàn)。陶瓷基片接地面與載體必須具備優(yōu)良的軟釬接性能。
(1)基片接地面的金屬化研究
微波電路基片金屬化的主要途徑是通過薄膜、厚膜和LCTT共燒來實現(xiàn)。
(a)薄膜制作
微波薄膜電路一般采用CrAu膜系統(tǒng)。Cr層作為過渡層以提高金屬與陶瓷板的附著強度,Au作為主導(dǎo)層以滿足微波電性能的要求。
采用Au基釬料可以實現(xiàn)CrAu膜與載體的焊接,但Au基釬料價格昂貴,并要在專門的氣控爐中進行,工藝復(fù)雜,為此需研究適合普通Sn-Pb釬料的金屬膜系。
研究設(shè)計了CrAu、CrCuAu、CrAuCuAu三種膜系,并通過不同工藝手段制作出不同的膜厚。測試結(jié)果見表1。

表1 不同薄膜體系的工藝性能狀況

  考慮微波電路的綜合要求(線厚、精度及焊接性等)選用 CrAuCuAu系統(tǒng)作為微波電路的導(dǎo)帶及接地面金屬化膜。
(b)厚膜制作
微波電路厚膜制作的關(guān)鍵是線條精度,接地面的金屬層一般是Au基合金,其中以Au-Pt的耐焊性最好。Au-Pt的耐焊性大于10次,如燒結(jié)工藝掌握好的話可達70~80次。Au-Pt膜的可焊性相對來說差一些,但經(jīng)過適當(dāng)處理,也能獲得較好的可焊性。
(c)LTCC共燒制作
各層之間的通孔、接地面均可用Au制作,整個基板的制作與厚膜制作相同,也以采用Au-Pt膜為主。
(2)載體可焊性鍍層研究
根據(jù)產(chǎn)品不同的要求,需選用不同的載體材料,功率大、散熱要求高的選AI、Cu;重量要求輕的選Al、Ti;與Al2O3陶瓷熱膨脹系數(shù)相近的選可伐合金、42合金等。另外還有與GaAs熱膨脹系數(shù)相近的Mo,新興的復(fù)合材料AlSiC等,這些載體材料要通過表面處理才能與陶瓷基片焊接,得到優(yōu)良的焊接接頭。表面處理包括焊接性能良好的表面鍍層和熱膨脹系數(shù)分配合理的鍍層體系。
本研究設(shè)計了不同的鍍層系列。經(jīng)環(huán)境試驗及試樣制作,最終選用的體系分別為:
Al——NiP-Cu-SnPb
Cu——Ag
Ti——Cu-SnPb
可伐——Ni-Au
42合金——Ni-Au

3 焊接工藝研究

  焊接工藝研究主要包括三方面的內(nèi)容:熱膨脹系數(shù)相異造成的陶瓷開裂;焊接變形和釬透率(被釬接面積/需焊接面積)。
(1)陶瓷開裂問題
從結(jié)構(gòu)分析、設(shè)計;釬料和緩沖層;釬接工藝等幾個方面著手研究。
結(jié)構(gòu)分析與設(shè)計—通過結(jié)構(gòu)分析和計算,得出了最佳的結(jié)構(gòu)因素。為計算簡便起見,作如下假設(shè):a)不考慮Y、Z方面的變化;b)溫度范圍設(shè)定為 20~200℃,僅考慮彈性變形;c)中心軸的長度保持不變?nèi)鐖D3、圖4、圖5所示。

圖3 試樣示意圖

 

圖4 板厚比與po的關(guān)系

 

圖5 界面應(yīng)力分布

  綜合考慮,選擇r≤1為佳。
WilliamW在42合金和可伐合金上用Au-Ge焊料在400℃時焊接Al2O3,并對應(yīng)力作了測定結(jié)果。見表2。

表2 應(yīng)力測定結(jié)果
   

從表2中也可看出金屬基座愈薄,對抗裂愈有利。
釬料和緩沖層—選擇焊接溫度低,塑性好的釬料及應(yīng)力緩沖層是防止陶瓷開裂的一個重要手段。研究了多種釬料的可焊性,最終選定In-Sn、Sn-Pb二種釬料作為基本釬料。[4][6]緩沖層的結(jié)構(gòu)也很多,材料選擇主要是以Mo片、Ti片為主。
釬接工藝—釬接工藝主要根據(jù)陶瓷熱性能來設(shè)計,選用緩慢加熱、冷卻過程如圖6所示。值得提出的是這種工藝對基片與載體的焊接性能,特別是耐焊性提出了更高的要求。

圖6 典型溫度曲線(Sn-Pb釬料)

  (2)焊接變形
焊接變形主要影響最終裝配質(zhì)量,變形大時,在最終裝配時不會引起開裂。變形必須控制在一定的范圍內(nèi)。
控制變形的方法是載體材料、厚度的正確選擇和焊接夾具的設(shè)計。
選用夾具,控制變形,將增加應(yīng)力,不利于防裂,為此夾具的壓力必須合適。壓力是保證間隙、焊接質(zhì)量和減少焊后變形的關(guān)鍵因素,要在整個加熱過程中維護適當(dāng)?shù)膲毫Γ菉A具設(shè)計的原則。
通常設(shè)計要求為變形小于0.1mm/100mm,正確設(shè)計夾具及焊接工藝,研究的實測變形一般在0.03~0.05mm之間。
(3)釬透率
釬透率直接反映了接地效果,是整個技術(shù)的重要指標(biāo),要在100mm×100mm(研究目標(biāo))內(nèi)達到高指標(biāo),是一個難題。在焊接預(yù)置、載體開槽及打孔、夾具空隙等方面作了研究,使釬接率達到85%以上(一般可達90%)如載體金屬打工藝孔,可使釬接率從40%~50%上升到90%。開槽可控制被焊接的位置,在電性能上獲得了良好的效果。目前正在研究網(wǎng)格載體與電性能的關(guān)系,如獲得突破,則釬透率問題就將最終獲得解決。

4 討論與實例

  Al2O3— Al產(chǎn)品的實例,其技術(shù)指標(biāo)如下:
工作頻率  1200~1400MHz
組件尺寸  40mm×90mm
釬透率   90.28%
焊后變形  ≤0.01mm
接觸電阻  ≤0.02Ω
插入損耗  ≤0.06db
串 擾   ≤0.1db
熱循環(huán)次數(shù) ≥45次
微波電路組裝技術(shù)的研究,是一個電、結(jié)構(gòu)及工藝的綜合性課題。目前這項研究工作已應(yīng)用于實踐,共制作組件2000余件,并獲得明顯的技術(shù)和經(jīng)濟效益。

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