5月16日是聯(lián)合國教科文組織定義的“國際光日”，ASML中國官方在一篇微信推送中寫道“創(chuàng)新，讓摩爾定律重煥光彩”。
ASML中國強調，過去15年，摩爾定律依然生效且狀況良好，未來十年甚至更長時間內將繼續(xù)保持勢頭。
ASML自信滿滿地指出“在元件方面，目前的技術創(chuàng)新足夠將芯片的制程推進至至少1納米節(jié)點，包括gate-all-around FETs(環(huán)繞柵極晶體管)，nanosheet FETs，forksheet FETs以及complementary FETs”。
此外，光刻系統(tǒng)分辨率的改進(預計每6年左右縮小2倍)和邊緣放置誤差(EPE)對精度的衡量也將進一步推動芯片尺寸縮小的實現(xiàn)。
據(jù)了解，納米之后將進入埃米時代，臺積電、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工藝早期路線圖。也許，技術創(chuàng)新之所以彌足珍貴，內核要義就在于不會被困難打倒。
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