據彭博社2月9日的消息,ASML 在本周三發布的最新年度報告中提到:“2021 年初,我們根據有關報道了解到,XTAL的關聯公司,正在中國積極銷售可能侵犯 ASML 知識產權的產品。”

據公開資料顯示,XTAL的“關聯公司“為中國的東方晶源微電子,此為前者的母公司,XTAL在2019年的竊取 ASML 商業機密案后注銷。

ASML表示:已經要求部分客戶暫停與 XTAL 中國的母公司東方晶源微電子的業務往來,并已告知中國政府相關情況。同時,正在“密切關注這一情況,并準備在適當的時候采取法律行動”。

彭博社表示,發送至 XTAL 網站上列出的官方電子郵件的詢問無法送達,并且打給東方晶源微電子北京總部的電話也無人接聽。

此前,六名前ASML的中國雇員,與XTAL中國員工分享了ASML軟件流程的信息,而遭受調查,后者被指控竊取ASML產品和服務的一小部分,將其出售給了ASML位于韓國的客戶。值得一提的是,該客戶為韓國的三星,而三星為XTAL的第二大股東,持有XTAL30%的股份。

2019 年 5 月,美國加州圣克拉拉市法院判決 XTAL 竊取 ASML 商業機密一案,ASML 獲得勝訴。加州高等法院判給 ASML 8.45 億美元(約合 57.4 億人民幣)賠償及臨時禁令,并接手已破產的 XTAL 的大部分知識產權。

從目前披露的信息來看,涉及侵權的產品也并非光刻機技術。

據了解,東方晶源微電子科技(北京)有限公司(下稱“東方晶源”)成立于2014年2月,總部位于北京,在上海及深圳設有研發中心。是由俞宗強博士帶領海外華人科學家、工程師設立的高科技公司。

東方晶源承擔了三項國家“02重大專項”任務,分別為“計算光刻軟件與測試系統的研制”、“自由光瞳照明技術在光刻機中的應用研究”以及“14nm以下電子束硅片圖形缺陷檢測設備研發與產業化”。其中前兩項均與國產浸沒式光刻機研發有關,是國產浸沒式光刻機所需的核心技術。

東方晶源主要業務為服務芯片設計與制造的EDA軟件產品、光刻機制程優化系列產品的研發以及納米級檢測裝備和關聯軟硬件產品良率綜合優化解決方案的研發與生產。公司的核心業務和產品均為國內唯一,填補國內空白。

其中，光刻機優化和計算光刻軟件(OPC)是連接芯片設計和制造的核心軟件,也是光刻機工作的必備軟件。東方晶源研發生產的納米級電子束圖形檢測裝備(EBI和CD-SEM)也是芯片制造過程中良率檢測和控制的必備設備,也是國內目前唯一可以實現28納米前道檢測的裝備。公司前述三項產品均已在國內主要客戶產線驗證并獲得多個訂單,打破了國際巨頭在該等領域的多個壟斷。公司目前共申請專利142項,獲得授權46項,其中包括日本、美國專利19項。