近日，炬光科技在投資者互動平臺上表示，公司為荷蘭ASML核心供應商A公司提供光刻機用光場勻化器和半導體晶圓退火核心元器件。
據(jù)了解，炬光科技成立于2007年9月，主要從事激光行業(yè)上游的高功率半導體激光元器件、激光光學元器件的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售。目前聚光科技已發(fā)展成為國內(nèi)實力最強的高功率半導體激光器品牌，擁有共晶鍵合技術、熱管理技術、熱應力控制技術、界面材料與表面工程、測試分析診斷技術、線光斑整形技術、光束轉(zhuǎn)換技術、光場勻化技術（光刻機用）和晶圓級同步結構化激光光學制造技術九大類核心技術，產(chǎn)品逐步被應用于先進制造、醫(yī)療健康、科學研究、汽車應用、消費電子五大領域。
而炬光科技為ASML供應商提供的半導體晶圓退火核心元器件和光場勻化器可用到半導體制造工藝中的前道工序中。
眾所周知，晶圓激光退火是28nm及以下邏輯芯片制造中的關鍵工藝之一。該工藝采用近紅外波段半導體激光光源，通過多組不同功能的激光光學整形系統(tǒng)及光學勻化系統(tǒng)，可以有效做到提升晶圓生產(chǎn)的良品率。
而聚光科技擁有的DLight S系列半導體集成電路晶圓退火系統(tǒng)在能量均勻性和能量穩(wěn)定性上表現(xiàn)優(yōu)異，可應用到半導體前道工序中，并完成動態(tài)表面退火（DSA）和激光尖峰退火（LSA）兩種加工工藝。
另外，炬光科技推出的微光學光束整形產(chǎn)品具備大透鏡縱深（大數(shù)值孔徑）、光場非均勻度低（1％）、高品質(zhì)材料選擇范圍廣（玻璃、石英、半導體等）等優(yōu)勢，目前已經(jīng)應用到業(yè)界領先的高性能半導體設備制造商中。
并購 LIMO擴大業(yè)務范圍
值得一提的是，在去年12月23日，炬光科技發(fā)布了科創(chuàng)板上市公告書，根據(jù)公告書內(nèi)容顯示，炬光科技的重要收入及盈利來源于海外客戶，在報告期內(nèi)，公司主營業(yè)務收入中境外收入分別為 21，400．48 萬元、18，071．63萬元、18，855．15 萬元和 9，160．51 萬元，占主營業(yè)務收入比例分別為 61．38％、54．88％、53．19％和 42．51％。
而炬光科技的境外收入來源于2017年的一場并購。
在2017 年，炬光科技通過并購 LIMO后擁有“調(diào)控光子”的技術能力，并通過研發(fā)、市場、銷售的戰(zhàn)略整合，相互結合開始拓展“光子技術應用解決方案”。
據(jù)了解，LIMO是一家致力于拓展激光光學元器件的新興應用領域的公司，主要從事激光光學業(yè)務，擁有線光斑整形技術、光束轉(zhuǎn)換技術、光場勻化技術、晶圓級同步結構化激光光學制造技術等多項核心技術。
收購 LIMO 后，炬光科技獲得了業(yè)務能力上的彌補和擴展，通過將LIMO原有業(yè)務激光光學產(chǎn)品線（MO）保留在 LIMO中運營，并在東莞新建產(chǎn)能共同從事激光光學元器件業(yè)務；半導體激光產(chǎn)品線（主要是工業(yè)應用模塊，ILS）轉(zhuǎn)移至西安運營，豐富了炬光科技的高功率半導體激光的產(chǎn)品線；
如今，炬光科技現(xiàn)已形成高功率半導體激光元器件、激光光學元器件、汽車應用（激光雷達）和光學系統(tǒng)四大核心業(yè)務領域。
半導體激光和激光光學為主營業(yè)務
在報告期內(nèi)，炬光科技2021 年 1－9 月實現(xiàn)營業(yè)收入 34，289．44 萬元，同比增長 29．33％，凈利潤為5439．32萬元，同比增長116．22％。其中公司半導體激光業(yè)務和激光光學業(yè)務分別較上年同期增長 54．68％和 23．86％，為本期業(yè)績增長的主要原因。
（圖源炬光科技公告）
目前，半導體激光業(yè)務和激光光學業(yè)務已成為聚光科技的主要營收業(yè)務，2021年1－6月，公司的半導體激光及激光光學業(yè)務營收金額分貝為9439．04萬元、10076．80萬元，分別占比43．8％、46．76％。
其中，炬光科技的激光光學業(yè)務典型產(chǎn)品包括光束轉(zhuǎn)換器、光場勻化器等。報告期內(nèi)，其光場勻化器在光刻應用產(chǎn)品單價分別為22．30萬元／件、20．38萬元／件、20．87萬元／件和20．91萬元／件，光場勻化器等相關產(chǎn)品為炬光科技貢獻了較大業(yè)務收入。
ASML工廠發(fā)生火災
眾所周知，炬光科技提供的光場勻化器產(chǎn)品主要是提供給ASML的核心供應商A公司，且已經(jīng)應用到ASML的核心產(chǎn)品高端光刻機當中生產(chǎn)。
據(jù)了解，ASML在當?shù)貢r間1月3日的時候有部分工廠發(fā)生火災，當時ASML并未公布火災受損情況。
到了當?shù)貢r間1月7日，ASML更新了德國柏林的部分工廠內(nèi)發(fā)生火災的最新情況。
ASML表示，火災發(fā)生在柏林現(xiàn)場的一棟生產(chǎn)大樓的一部分，煙霧部分影響了相鄰的大樓。目前已經(jīng)能夠在這些建筑物的部分地區(qū)恢復生產(chǎn)。現(xiàn)場的其他建筑物沒有受到影響，并已全面投入使用。
盡管ASML對損害的影響評估仍在進行中，但ASML認為：
1．我們的計量和檢驗輸出計劃不受影響，因為它們不包含柏林制造的任何組件。
2． DUV組件的制造已重新啟動。盡管 DUV 的組件出現(xiàn)了一些中斷，但我們希望以不會影響我們 DUV 的產(chǎn)量和收入計劃的方式進行補救。
3．關于EUV光刻機，火災影響了我們 EUV 系統(tǒng)中的一個模塊晶圓夾具的部分生產(chǎn)區(qū)域。我們?nèi)栽谕瓿稍撋a(chǎn)區(qū)域的恢復計劃，并確定如何最大限度地減少對我們的 EUV 客戶的任何潛在影響，無論是在我們的輸出計劃還是在我們的現(xiàn)場服務中。
同時，ASML還表示其將在2022 年 1 月 19 日公布 2021 年第四季度和全年業(yè)績，以及對 2022 年的初步看法，預計屆時還將提供有關該事件的進一步更新。
這次ASML德國柏林的工廠發(fā)生火災，已經(jīng)影響到了其光刻機產(chǎn)品重要零部件的供應，ASML或?qū)⒁虼苏覍じ嗟墓桃汛_保可以及時獲取充足的零部件供應，炬光科技子公司或?qū)⒁虼耸芤妗?/p>
結語
炬光科技多年來一直為半導體光刻應用領域提供光刻機曝光系統(tǒng)中的核心激光光學元器件——光場勻化器，其產(chǎn)品目前在國內(nèi)主要光刻機研發(fā)項目和樣機中也已經(jīng)有所應用，而國內(nèi)的半導體設備產(chǎn)業(yè)也將因此受益，有效改善國內(nèi)半導體設備產(chǎn)業(yè)的生態(tài)環(huán)境。
