自2020年至今，全球芯片供應(yīng)短缺問(wèn)題一直沒(méi)有得到解決，甚至還有愈演愈烈的趨勢(shì)，這在一定程度上擾亂了制造業(yè)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，因此近兩年各國(guó)紛紛加強(qiáng)了對(duì)國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)扶持，尤其是日本。

其實(shí)，在上世紀(jì)八九十年代，日本半導(dǎo)體也曾有過(guò)輝煌時(shí)刻，一度在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中撐起了半壁江山，但因?yàn)槎嗄陙?lái)日本政府對(duì)芯片產(chǎn)業(yè)投資不足，日本芯片制造在全球市場(chǎng)上的份額越來(lái)越小。

這一次的全球“芯片荒”讓世界各國(guó)都意識(shí)到了掌握芯片制造的重要性，決定重振芯片產(chǎn)業(yè)，這其中就包括日本。

眾所周知，芯片制造是一個(gè)資金密集型產(chǎn)業(yè)，因此日本政府加大了對(duì)芯片產(chǎn)業(yè)的投資。日本首相曾表示，將為國(guó)內(nèi)芯片生產(chǎn)提供超1.4萬(wàn)億日元（約123億美元）的投資。

不過(guò)，華爾街見(jiàn)聞2021年12月22日?qǐng)?bào)道，東京電子有限公司前總裁東哲郎認(rèn)為，日本政府應(yīng)該在下一季度提供稅收減免，同時(shí)在未來(lái)10年內(nèi)投資10萬(wàn)億日元（約880億美元）以振興日本芯片制造產(chǎn)業(yè)。

并且，東哲郎表示，日本需要大概10年的時(shí)間才能進(jìn)入芯片制造的前線陣營(yíng)，期望在這段時(shí)間內(nèi)，日本能夠?qū)崿F(xiàn)2nm和3nm芯片的量產(chǎn)。

需要注意的是，即便是全球技術(shù)最先進(jìn)的晶圓代工廠臺(tái)積電，目前也沒(méi)能實(shí)現(xiàn)3nm芯片的量產(chǎn)。

日本芯片制造業(yè)已經(jīng)落后多年，想要在10年內(nèi)沖刺3nm甚至2nm芯片的量產(chǎn)，這個(gè)難度著實(shí)不小。那么，日本究竟哪里來(lái)的底氣沖刺2nm芯片呢？

值得一提的是，日本雖然沒(méi)有先進(jìn)的晶圓廠，但它在半導(dǎo)體材料以及核心設(shè)備等領(lǐng)域卻具有明顯的優(yōu)勢(shì)。

以芯片制造過(guò)程中必不可少的核心設(shè)備——光刻機(jī)為例，眾所周知全球能夠提供EUV光刻機(jī)的企業(yè)只有荷蘭的ASML公司，但其實(shí)日本佳能、尼康也是光刻機(jī)領(lǐng)域的巨頭。

不僅如此，在ASML公司崛起之前，日本尼康才是全球光刻機(jī)霸主，佳能緊隨其后。盡管如今尼康和佳能在高端光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)“沒(méi)落”，但它們之前在光刻機(jī)領(lǐng)域的相關(guān)積累，也能在一定程度上給日本的先進(jìn)制造提供指引。

另外，在EUV光刻膠方面，南大光電在2021年3月發(fā)布的相關(guān)報(bào)告中披露，放眼全球只有日本廠商研發(fā)出了EUV光刻膠。

要知道，在芯片制造的過(guò)程中，光刻膠的重要性幾乎等同于光刻機(jī)，而且光刻膠的精度也制約著芯片制程的推進(jìn)，若想要生產(chǎn)制造出7nm節(jié)點(diǎn)以下的芯片，EUV光刻膠是不可或缺的材料。

除了EUV光刻膠外，日本企業(yè)在EUV涂覆顯影設(shè)備，以及EUV光罩檢驗(yàn)設(shè)備中領(lǐng)域也做到了全球壟斷。

總而言之，日本在部分半導(dǎo)體材料或設(shè)備領(lǐng)域的壟斷，就是它的底氣。而在日本相關(guān)企業(yè)的配合下，以及政府的資金支持下，日本的確存在復(fù)興半導(dǎo)體制造業(yè)的可能。

不過(guò)，日本芯片的崛起，必然會(huì)對(duì)中國(guó)芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生一定的威脅，畢竟我國(guó)在半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈上的布局還并不完善。