據(jù)每日經(jīng)濟新聞報道，世界光刻機巨頭ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV光刻機。據(jù)了解，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

光刻機(Mask Aligner) 又名掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

21ic家了解到，作為全球芯片作為全球芯片光刻技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者，ASML(阿斯麥)以“光刻未來，攜手同行”為主題亮相第三屆進博會技術(shù)裝備展區(qū)。

在此次展會上，ASML除了展示了其整體光刻解決方案，包括先進控制能力的光刻機臺計算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。同時也讓現(xiàn)場觀眾近距離接觸光刻機模型，同時，通過光刻小游戲，讓大家更近距離體驗光刻世界的奇妙，在趣味中體驗“光的掌門人”的日常工作。