晶圓代工龍頭臺積電下半年全力沖刺5納米量產，明年還展開3納米生產線建置，臺積電已成為全球擁有最大極紫外光（EUV）產能的半導體大廠，臺灣因此成為全球EUV曝光機最大市場。微影設備大廠荷商ASML在南科設立荷蘭以外的首座EUV全球技術培訓中心20日開幕啟用，就近支援臺積電及亞太地區客戶。

　　積電中科Fab 15廠及竹科Fab 12廠都有建置EUV曝光機設備，主要提供7+納米及6納米晶圓代工，南科Fab 18廠是針對5納米及3納米打造的超大型晶圓廠（GigaFab），亦是臺積電EUV微影全制程廠區。臺積電下半年5納米進入量產，明年開始建置3納米生產線，對于EUV曝光機需求大增。據了解，臺積電Fab 18廠現階段已安裝18臺EUV曝光機，成為全球擁有最大EUV產能的半導體廠。

　　臺積電看好5納米及3納米等先進制程未來幾年強勁需求，今年資本支出已提高至160～170億美元，代表對持續增加EUV曝光機采購量。EUV設備大廠ASML為了服務大客戶臺積電，并就近支援亞太區其它客戶，選擇在南科設立荷蘭以外的首座EUV全球技術培訓中心。

　　ASML全球副總裁暨臺灣區總經理陳文光20日在培訓中心開幕典禮指出，2010年ASML提供第一臺EUV微影設備原型機給臺積電進行研發工作，為全球微影技術開創新紀元。2017年ASML交付第一臺量產型EUV微影系統給臺積電，寫下商用EUV制程技術的新里程。臺灣EUV曝光機裝機規模已領先全球，ASML在南科成立EUV全球技術培訓中心，為臺灣半導體產業提供更完整的服務。

　　ASML重申看好EUV曝光機臺出貨，今年EUV設備產能可支援35臺出貨量，明年可望再增加至45～50臺。由于晶圓代工廠及IDM廠在7納米及更先進制程需要大量采用EUV技術完成晶圓光罩曝光制程，DRAM廠也開始導入EUV技術，隨著臺積電、三星、英特爾、SK海力士等國際大廠開始量產，法人看好EUV機臺次系統模組代工廠帆宣、極紫外光光罩盒（EUV Pod）供應大廠家登等直接受惠，訂單能見度看到年底。

　　同時，臺積電亦藉由干式EUV光罩潔凈技術的創新，自2018年導入試產迄今，有效減省水、化學品等能資源使用量，大幅縮短光罩保修頻率與時間，除使光罩使用率躍升超過80％，亦延長先進制程EUV光罩壽命，累計創造的改善效益達新臺幣20億元。臺積電已于今年于Fab 12B廠、Fab 15B廠、Fab 18廠自動化系統導入量產，優化干式EUV光罩技術可分析與清潔小于50納米落塵。

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　　晶圓代工龍頭臺積電20日公告將以8.6億元價格，向太陽能電池廠益通購買南科廠房與附屬設施，這是臺積電今年第三度購買南科園區鄰近公司廠房，且臺積電累計已投入逾51億元在南科買地買廠。

　　臺積電20日公告以8.6億元價格，向益通光能購買位于臺南市新市區南科二路8號的廠房，建物面積約1.3萬坪，供營運與生產使用。

　　臺積電于今年5月亦公告以6.6億元價格，向家登買下位于南科當地的廠房土地，該廠建物面積約達1,956坪。臺積電亦于8月12日宣布買下偏光板廠力特南科廠，該廠建坪超過5.4萬坪、占地逾2.2萬坪，廠房位置就在臺積電南科廠隔壁，由于臺積電原先就承租該廠部分用地，直接由租轉買，傳是為了晶圓廠產能擴產預作準備。至于購買益通廠房用途，臺積電回應是為了因應南科廠區營運需求。

　　設備業者表示，臺積電在南科設立了Fab 14廠及Fab 18廠等兩座超大型晶圓廠，其中，Fab 18廠已完成5納米共3期晶圓廠建置，總月產能約達9萬片。臺積電將在Fab 18廠區繼續興建另外3期晶圓廠，并建置3納米生產線，預計2022年完成后陸續進入量產，2023年3納米共3期晶圓廠將可帶來每月9萬片的產能。

　　臺積電在7月中旬法人說明會中宣布將調升今年資本支出10億美元達160～170億美元，與去年相較增加約13％，主要是看好未來幾年在5G及高效能運算（HPC）的強勁晶圓代工需求，所以臺積電仍會維持高資本支出策略，并加速5納米量產及3納米技術研發及產能建置。

　　臺積電5納米下半年以最快速度拉升產能，并進入大規模量產階段，主要為蘋果代工A14應用處理器，而蘋果首款Arm架構Macbook處理器A14X預計年底前會采用臺積電5納米量產。另外，臺積電5納米強效版會在2021年開始量產，5納米優化推出的4納米制程會在2022年進入量產，為5納米提供了一個明確的升級路徑。