全球第三大半導體設備制造商ASML于4月28日表示，已對尼康（Nikon）提出反訴。

ASML解釋該事件的來龍去脈，ASML和Nikon在2004年簽訂了一項專利交叉授權協議，部分專利已獲永久授權，其他專利的授權日期已于2009年12月31日結束，雙方同意互不采取法律移動的過渡期也在2014年12月31日結束。

ASML總裁暨執行長Peter Wennink強調，在過去幾年里， ASML曾多次盡全力試圖與Nikon就交叉授權協議延展一事進行協商，但Nikon沒有為此做出任何真正的努力，反而選擇控告ASML專利侵權，公司對此感到失望。

Peter進一步強調，ASML始終相信，雙方能以協商的方式來解決，對半導體產業而言是好的，可以推動產業的創新與合作，更可減少這類讓產業無法集中精力在真正重要事情上的不必要專利訴訟案件，且Nikon提起的訴訟毫無根據，這將為整個半導體產業帶來不確定性。

據路透社4月24日消息，日本尼康 宣布在荷蘭、德國與日本針對 ASML（艾司摩爾） 和合作伙伴卡爾蔡司 （Carl Zeiss AG）的專利侵權提起訴訟，并表示 ASML 及 Carl Zeiss 兩家公司在未經 Nikon 的許可下將其微影 （lithography） 技術專利用于光刻機上，并運用在半導體制造業中。尼康在訴訟文件中稱，要求 ASML 和 Carl Zeiss AG 對未授權使用專利技術而做出賠償。

尼康曾在半導體設備產業叱咤一時，是全球第八大半導體設備廠商。據尼康公布的2017財年第三季度財報（2016年4月1日~12月31日）顯示，營業利潤下降了41%，尼康凈利潤虧損0.5億元人民幣，而上年同期盈利還高達11億人民幣。

當前，光刻系統被廣泛應用于制造半導體，而 ASML 又主導著半導體光刻機市場。據評級機構“惠譽評級”（Fitch Ratings）今年1月發布的調研報告顯示，在高端光刻機市場，ASML 的份額高達90%。而 ASML 公布的 2017 年第 1 季財報顯示，第 1 季營收凈利達 19.4 億歐元，毛利率為 47.6%，且預估第 2 季營收凈利在 19 到 20 億歐元之間，毛利率約為 43% 到 44%。

尼康曾是日本半導體制造技術的代表廠商，1993 年尼康的半導體曝光設備全球市占率達 48.4%，幾乎在市場稱王。1984 年設立的 ASML，在創建初期遠遠不及尼康。然而尼康好景不常，至 2000 年左右，ASML 市占率開始快速攀升，最后不僅超越尼康，2015 年全球市占率高達 81%，尼康只剩 12.1%。