尼康昨日宣布，已對荷蘭半導體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應商阿斯麥（ASML）和德國光學及光電子學設備廠商卡爾蔡司（Carl Zeiss）提起訴訟，指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術。

尼康稱，已在荷蘭、德國和日本對阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟。卡爾蔡司是阿斯麥的光學設備供應商。尼康在一份聲明中稱：“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下，在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專利技術。”

當前，光刻系統(tǒng)被廣泛應用于制造半導體，而阿斯麥又主導著半導體光刻機市場。評級機構(gòu)“惠譽評級”（Fitch Ratings）今年1月發(fā)布的調(diào)研報告顯示，在高端光刻機市場，阿斯麥的份額高達90%。

尼康在訴訟文件中稱，要求阿斯麥和卡爾蔡司對未授權(quán)使用專利技術而做出賠償。

對此，阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克（Peter Wennink）稱：“尼康的訴訟毫無依據(jù)，沒有必要，為半導體市場制造了不確定性。”溫尼克還稱，阿斯麥曾多次試圖與尼康談判，希望能對當前的一份交叉授權(quán)協(xié)議進行延期。