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臺積電南京浦口12吋晶圓廠下半年移入生產機臺

2017-03-27

臺積電南京有限公司總經理羅鎮球23日在ICMC 2017上表示,臺積電7納米預計2017年下半將為客戶tape-out生產。此外,他透露EUV最新曝光機臺在臺積電已經可以達到連續3天穩定處理超過1500片12吋晶圓。臺積電南京廠預計2017下半年就要移入生產機臺;2018上半年試產,2018下半年正式投入量產。

ICMC 2017在南京江北浦口新區舉行,并邀請全球半導體大廠臺積電進行第一場CEO論壇。臺灣地區半導體協會理事長盧超群也代表臺灣業者參會。盧超群說,臺積電日前的市值已正式超越英特爾,當他向臺積電董事長張忠謀報告時,張忠謀回他“我不看股票,只管把技術做好!”

臺積電南京有限公司總經理羅鎮球說,臺積電作為全球最大晶圓代工廠將會持續推進摩爾定律。他指出,目前臺積電10納米已順利量產,2017年下半7納米制程也將正式tape-out。同時,他也在會上分享了臺積電EUV最新進展。

目前臺積電采用ASML最新EUV的型號為NXE3350的曝光機臺,光源已經可以提高到125瓦,同時已達到連續3天處理1500片晶圓。

羅鎮球表示, 在普及計算領域,科技將重塑人類社會生活,未來普及計算,人將摸不到、也觸不到電腦, 這些電腦都在后臺通過云端運算連接,但個人卻可以享受得到普及計算的快速與智能。未來智能芯片將會滲透到個人、工業、零售、智能城市領域,摩爾定律也將持續推動芯片走向低功耗、高性能、小面積。

半導體產業未來的挑戰不僅只有制程微縮,未來挑戰還包括EUV、整個電晶體的架構從2D轉變成3D,以及整個環繞式ALL Around Gate、Narrow-wide Device等等。羅鎮球舉例,臺積電目前在3D芯片領域開展了多條創新技術,包括IC系統整合CoWos,將不同晶圓切割好再堆疊,單位體積上達到更高密度電晶體;目前此技術已在GPU芯片實現量產。這些都是臺積電在運用普及計算中的技術創新。

南京浦口是臺積電在大陸第一座12吋晶圓廠。羅鎮球透露,臺積電南京廠預計2017下半年就要移入生產機臺;2018上半年試產,2018下半年正式投入量產。


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