2016年下半半導體產業鏈彌漫著樂觀氣息，晶圓制造、封測、通路、設備廠全面備戰，迎接消費性電子傳統旺季，并隨著半導體業者力拚10/7納米先進制程，電子束檢測設備幾大龍頭業者，紛紛祭出新產品，替接下來的長期發展鋪路。

　　應用材料(Applied Materials)發表新一代電子束檢測系統，表示可提供業界最高的解析功能，其推出的PROVision系統，是唯一具備1納米解析度的電子束檢測機臺。鎖定10納米及以下的多重曝光、FinFET制程、DRAM與3D NAND元件等。

　　應材表示，PROVision系統可提供最多快上3倍的生產力，對于客戶鎖定先進制程、良率提升都有幫助。目前已經有客戶采用，出貨量已達十幾臺，并包括來自龍頭晶圓代工廠與存儲器制造商的重復訂單。

　　科磊(KLA-Tencor)也將推出6套先進的晶圓缺陷檢測和檢查系統，采用寬頻電漿光學和雷射掃描，和無圖案晶圓檢測儀和電子顯微鏡和分類工具等，亦是鎖定半導體10納米制程以下缺陷的光學偵測，并精準調整研發與工程設計工作的方向，可縮短缺陷檢測所需時間。

　　兩大美系大廠事實上都鎖定晶圓代工龍頭臺積電而來，先前被ASML收購的漢微科首當其沖，不過漢微科原本有85%以上的電子束檢測設備市場市占率，然電子束檢測市場競爭日趨激烈，漢微科市占率約從2015年下半以來，已被應材及科磊搶去不少，相關業者表示，臺積電及英特爾(Intel)已有部分機臺改買應用材料的方案。

　　除了漢微科將面臨市占率衰退的壓力外，漢微科本身研發能力與應材、科磊相較之下，未必有絕對優勢，相關業者認為，漢微科未來3年內的成長不若以往強勁，出售予ASML反而更有競爭力。而漢微科預計今年第4季完成股分轉換。

　　晶圓制造龍頭大廠臺積電、三星電子(Samsung Electronic)、英特爾(Intel)目前都在積極推動極紫外光(EUV)微影技術，ASML成為主力合作的設備業者，呈現先進制程的世代交替。業界人士透露，英特爾將在7納米制程轉進EUV，臺積電、三星則預計在5納米制程轉進。

　　相關業者表示，進入5納米世代之后，電子束檢測的需求量會變大，ASML購并漢微科后確實可以加強EUV的檢測能力，也可加快臺積電等業者跨入EUV的速度，這場先期的檢測設備大戰，已經點燃了未來數年內半導體產業界先進制程的戰火。