半導體設備業龍頭艾司摩爾" title="歐洲半導體設備業龍頭艾司摩爾" target="_blank">歐洲半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML Holding  NV）22日宣布，美國某大客戶已經下單，至少會訂購15臺極紫外光（EUV）微影設備，以便支援日益增多的研發作業和未來世代制程技術的試產方案。

　　ASML宣稱，最初兩臺NXE:3350B  EUV系統預計今（2015）年底前就能交貨，這些設備將加入客戶自身已有的EUV研發系統行列。ASML執行長Peter  Wennink說，EUV微影設備已接近大量普及的階段。

　　費城半導體指數成分股ASML 22日聞訊跳漲10.29%、收107.81美元，漲幅居30支成分股之冠，創3月24日以來收盤新高。

　　彭博社報導，英特爾（Intel Corp.）是ASML在美國的最大客戶。ING Bank NV分析師Robin van den  Broek在接受專訪時指出，這明顯是英特爾想要在7  納米制程技術中導入EUV設備，而假如以正常的報價計算，這筆訂單的金額將高達15億歐元；也就是說，英特爾已將一筆為數不小的資金投入了7納米制程科技。

　　den Broek還說，ASML另外兩家大客戶分別是三星電子（Samsung Electronics  Co.）與臺積電，他認為這兩家業者也會跟進導入EUV。

　　barron`s.com報導，Cowen & Co.分析師Timothy Arcuri  22日隨即發表研究報告指出，臺積電正在積極推進10納米制程，且研究顯示該公司的進度還不錯。相較之下，英特爾的10納米進度則略為延遲，而該公司為了保持制程上的領先，可能會被迫加速研發7納米，進而向ASML買進設備。

　　臺積電共同執行長劉德音曾在4月16日表示，旗下的10納米制程已獲十個客戶采用、預定明年第4季就能量產，而10納米制程產能會在2016年與2017年期間布置完畢。另外，臺積電也已開始研發7納米制程技術，預計2017年就進入最后試產階段的風險生產  （Risk Production）。

　　國際半導體設備材料協會（SEMI）甫于4月21日公布，2015年3月北美半導體設備制造商接單出貨比（Book-to-Bill  ratio）初估為1.10，連續第3個月高于1.0，并且創下2014年6月以來新高。1.10意味著當月每出貨100美元的產品就能接獲價值110美元的新訂單。

　　華爾街日報報導，英特爾4月14日宣布將2015年資本支出預算自100億美元（加減5億美元）降至87億美元（加減5億美元）。兩天后，臺積電也宣布下修今年資本支出、幅度達9%。根據Pacific  Crest的統計，全球三分之二的半導體資本支出集中在英特爾、三星以及臺積電這三家廠商。