3 月 12 日消息，英特爾高級(jí)副總裁安妮?凱萊赫（Anne Kelleher）近日出席 SPIE 2024 會(huì)議，透露 Intel 14A 工藝節(jié)點(diǎn)的性能功耗比（Performance per watt），會(huì)比 Intel 18A 提高 15%，而后續(xù)增強(qiáng)的 14A-E 工藝在普通 14A 節(jié)點(diǎn)的基礎(chǔ)上再增加 5%。
凱萊赫表示 Intel 14A 工藝率先使用 High-NA EUV 光刻技術(shù)，因此晶體管邏輯密度比 Intel 18A 提高了 20%。
英特爾公司正在積極推進(jìn) IDM 2.0 戰(zhàn)略，希望在 2030 年之前超越三星，重新奪回代工行業(yè)的領(lǐng)先地位，目前總訂單規(guī)模超過(guò) 150 億美元（當(dāng)前約 1077 億元人民幣）。英特爾公司此前發(fā)布公告，已經(jīng)和微軟公司達(dá)成合作，采用 Intel 18A 工藝為其生產(chǎn)芯片。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問(wèn)題，請(qǐng)及時(shí)通過(guò)電子郵件或電話(huà)通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話(huà)：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。