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日經:中國企業擬與尼康、佳能共同開發光刻機

2020-10-12
來源:芯片大師

  報道以美國限制華為、中芯國際的供應鏈為例指出,盡管有美國政府的出口限制,但中國半導體產業仍可迂回以對。

  中國有1000多家新興的半導體相關公司,如果華為和中芯國際從這些公司購買進口的半導體芯片、設計軟件以及生產設備,實際上就可以進行半導體采購并擴充制造設備。

  對此,Synopsys共同執行長Aart de Geus表示,“在中國有很多半導體相關企業(除華為外)都在大量購買(設計軟件)。”這種情況意味著無法避免中國國內的轉售。

  另外,日經指出,聯發科對美國的銷售額很少,該公司現在雖已停止對華為出貨,但也有可能會繼續接受華為的訂單并準備接受美國制裁。聯發科可以在不透露最終用戶詳細信息的情況下進行訂單生產,臺積電同樣可以。

  更重要的是,與芯片平面上的精細化相比,3D堆疊技術正在成為延續摩爾定律的主角。基于此,光刻機已然成為影響全球科技競爭的又一大重大因素。

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  目前,全世界只有荷蘭的ASML可以制造EUV光刻機。而大部分基礎技術的知識產權都由美國把持,因此荷蘭政府此前宣布不允許ASML向中國出口EUV設備。

  不過,若是EUV以外的光刻機,日本的尼康和佳能也可以制造。業界有關人士向日經表示:“中國企業擬向兩家日本公司提供資金,要求共同開發除EUV以外的新型光刻機。”此外,中國政府也開始著手開發制造設備和設計軟件。

  

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